半电波暗室的低频性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-11页 |
| 1.3 本文的主要研究内容和目的 | 第11-13页 |
| 第二章 电磁兼容测试场地及性能参数研究 | 第13-29页 |
| 2.1 引言 | 第13页 |
| 2.2 电磁兼容测试场地 | 第13-18页 |
| 2.2.1 开阔场试验场地 | 第13-14页 |
| 2.2.2 屏蔽室 | 第14-15页 |
| 2.2.3 电波暗室 | 第15-17页 |
| 2.2.4 横电波小室 | 第17页 |
| 2.2.5 混响室 | 第17页 |
| 2.2.6 预兼容暗室 | 第17-18页 |
| 2.3 吸波材料 | 第18-22页 |
| 2.3.1 材料分类 | 第18-19页 |
| 2.3.2 吸波原理 | 第19-22页 |
| 2.4 半电波暗室的主要性能指标 | 第22-27页 |
| 2.4.1 屏蔽效能(SE) | 第22-24页 |
| 2.4.2 场均匀性(FU) | 第24-26页 |
| 2.4.3 归一化场地衰减(NSA) | 第26-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-29页 |
| 第三章 半电波暗室基础分析与研究 | 第29-44页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 铁氧体的性能研究 | 第29-36页 |
| 3.2.1 铁氧体材料参数 | 第29页 |
| 3.2.2 铁氧体的理论分析 | 第29-31页 |
| 3.2.3 铁氧体的参数拟合 | 第31-34页 |
| 3.2.4 铁氧体的建模仿真与测试 | 第34-36页 |
| 3.3 屏蔽室的谐振分析 | 第36-43页 |
| 3.3.1 屏蔽室的谐振分析 | 第36-39页 |
| 3.3.2 谐振的仿真分析 | 第39-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 半电波暗室场均匀性仿真与实验研究 | 第44-62页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 半电波暗室内的场强仿真分析 | 第44-50页 |
| 4.2.1 屏蔽室的电场分布 | 第44-47页 |
| 4.2.2 半电波暗室的电场分布 | 第47-50页 |
| 4.3 场均匀性测试方法 | 第50-51页 |
| 4.3.1 恒定功率法 | 第50-51页 |
| 4.3.2 恒定场强法 | 第51页 |
| 4.4 场均匀性全波仿真 | 第51-57页 |
| 4.4.1 场均匀性仿真布置 | 第52-53页 |
| 4.4.2 场均匀性仿真结果 | 第53-55页 |
| 4.4.3 半电波暗室尺寸对场均匀性的影响 | 第55-57页 |
| 4.5 场均匀性的仿真与实测对比 | 第57-61页 |
| 4.6 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 半电波暗室归一化场地衰减仿真与实验研究 | 第62-79页 |
| 5.1 引言 | 第62页 |
| 5.2 归一化场地衰减的理论计算模型 | 第62-68页 |
| 5.2.1 理论模型的建立 | 第63-66页 |
| 5.2.2 理论值与标准值的比较 | 第66-68页 |
| 5.3 归一化场地衰减的测试方法 | 第68-70页 |
| 5.3.1 传统的NSA测试法 | 第68-69页 |
| 5.3.2 场地参考法 | 第69-70页 |
| 5.4 归一化场地衰减的全波仿真分析 | 第70-74页 |
| 5.4.1 参考场地的场地衰减分析 | 第70-71页 |
| 5.4.2 半电波暗室的场地衰减分析 | 第71-74页 |
| 5.5 归一化场地衰减的仿真与实测对比 | 第74-78页 |
| 5.6 本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 总结与展望 | 第79-81页 |
| 6.1 全文总结 | 第79-80页 |
| 6.2 后期展望 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-86页 |
| 作者简介 | 第86页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第86页 |
