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水辅助激光诱导等离子体刻蚀Pyrex7740玻璃技术研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-8页
第一章 绪论第11-15页
    1 研究背景第11-12页
    2 课题研究的目的和意义第12页
    3 研究内容第12-15页
第二章 Pyrex7740玻璃微加工综述第15-33页
    1 几种常用的Pyrex7740玻璃微加工方法第15-23页
        1.1 湿法腐蚀第15-18页
        1.2 干法刻蚀第18-20页
        1.3 机械刻蚀第20-23页
    2 激光加工技术在Pyrex7740玻璃刻蚀中的应用第23-29页
        2.1 激光直接刻蚀第24-27页
        2.2 激光诱导等离子体刻蚀第27-29页
            2.2.1 激光诱导背部湿法刻蚀第27-28页
            2.2.2 激光诱导背部干法刻蚀第28-29页
    3 激光诱导等离子体刻蚀国内外研究现状第29-31页
    4 本章小结第31-33页
第三章 激光诱导等离子体刻蚀机理研究第33-39页
    1 等离子体概述第33-34页
    2 激光诱导离子体的形成机理第34-37页
    3 激光与等离子体的相互作用第37页
    4 激光诱导等离子体冲击波第37-38页
    5 本章小结第38-39页
第四章 实验设备、实验材料和实验方法第39-47页
    1 实验设备第39-43页
        1.1 数控紫外激光精细加工机床第39-40页
        1.2 真空磁控溅射镀膜机第40-41页
        1.3 激光共聚焦显微镜第41-42页
        1.4 表面轮廓仪第42-43页
    2 试验材料第43-44页
    3 实验方法第44-45页
        3.1 实验加工系统第44页
        3.2 实验流程第44-45页
    4 本章小结第45-47页
第五章 激光诱导等离子体刻蚀Pyrex7740玻璃实验研究第47-57页
    1 激光能量密度对平均刻蚀深度的影响第47-49页
    2 激光加工次数对平均刻蚀深度的影响第49-51页
    3 激光加工参数对刻蚀表面质量的影响第51-54页
        3.1 激光能量密度第52页
        3.2 激光加工速度与重复频率第52-54页
    4 Pyrex7740玻璃十字型微流控芯片的加工第54-56页
    5 实验机理分析第56-57页
第六章 总结与展望第57-59页
    1 主要结论第57页
    2 进一步研究工作的展望第57-59页
参考文献第59-63页
致谢第63-65页
攻读硕士期间发表的论文和取得的学术成果第65页

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