摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第11-15页 |
1 研究背景 | 第11-12页 |
2 课题研究的目的和意义 | 第12页 |
3 研究内容 | 第12-15页 |
第二章 Pyrex7740玻璃微加工综述 | 第15-33页 |
1 几种常用的Pyrex7740玻璃微加工方法 | 第15-23页 |
1.1 湿法腐蚀 | 第15-18页 |
1.2 干法刻蚀 | 第18-20页 |
1.3 机械刻蚀 | 第20-23页 |
2 激光加工技术在Pyrex7740玻璃刻蚀中的应用 | 第23-29页 |
2.1 激光直接刻蚀 | 第24-27页 |
2.2 激光诱导等离子体刻蚀 | 第27-29页 |
2.2.1 激光诱导背部湿法刻蚀 | 第27-28页 |
2.2.2 激光诱导背部干法刻蚀 | 第28-29页 |
3 激光诱导等离子体刻蚀国内外研究现状 | 第29-31页 |
4 本章小结 | 第31-33页 |
第三章 激光诱导等离子体刻蚀机理研究 | 第33-39页 |
1 等离子体概述 | 第33-34页 |
2 激光诱导离子体的形成机理 | 第34-37页 |
3 激光与等离子体的相互作用 | 第37页 |
4 激光诱导等离子体冲击波 | 第37-38页 |
5 本章小结 | 第38-39页 |
第四章 实验设备、实验材料和实验方法 | 第39-47页 |
1 实验设备 | 第39-43页 |
1.1 数控紫外激光精细加工机床 | 第39-40页 |
1.2 真空磁控溅射镀膜机 | 第40-41页 |
1.3 激光共聚焦显微镜 | 第41-42页 |
1.4 表面轮廓仪 | 第42-43页 |
2 试验材料 | 第43-44页 |
3 实验方法 | 第44-45页 |
3.1 实验加工系统 | 第44页 |
3.2 实验流程 | 第44-45页 |
4 本章小结 | 第45-47页 |
第五章 激光诱导等离子体刻蚀Pyrex7740玻璃实验研究 | 第47-57页 |
1 激光能量密度对平均刻蚀深度的影响 | 第47-49页 |
2 激光加工次数对平均刻蚀深度的影响 | 第49-51页 |
3 激光加工参数对刻蚀表面质量的影响 | 第51-54页 |
3.1 激光能量密度 | 第52页 |
3.2 激光加工速度与重复频率 | 第52-54页 |
4 Pyrex7740玻璃十字型微流控芯片的加工 | 第54-56页 |
5 实验机理分析 | 第56-57页 |
第六章 总结与展望 | 第57-59页 |
1 主要结论 | 第57页 |
2 进一步研究工作的展望 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
致谢 | 第63-65页 |
攻读硕士期间发表的论文和取得的学术成果 | 第65页 |