| 致谢 | 第7-8页 |
| 個安 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第16-29页 |
| 1.1 质谱仪器介绍 | 第16-18页 |
| 1.1.1 质谱仪器的组成 | 第16-17页 |
| 1.1.2 质谱仪器的发展 | 第17-18页 |
| 1.1.3 质谱仪器的应用 | 第18页 |
| 1.2 质谱离子化方法简介 | 第18-22页 |
| 1.2.1 常见离子化技术原理 | 第19-21页 |
| 1.2.2 常用离子化技术的比较 | 第21-22页 |
| 1.3 化学电离质谱 | 第22-26页 |
| 1.3.1 气相离子-分子反应分类 | 第22-24页 |
| 1.3.2 典型的化学电离质谱 | 第24-26页 |
| 1.4 化学电离质谱高纯度NO_2~+离子源研究的意义 | 第26-28页 |
| 1.5 本文主要内容 | 第28-29页 |
| 第二章 化学电离质谱高纯度NO_2~+离子源产生基础理论 | 第29-38页 |
| 2.1 介质阻挡放电简介 | 第29-34页 |
| 2.1.1 介质阻挡放电基本结构 | 第29-30页 |
| 2.1.2 介质阻挡放电工作机理 | 第30页 |
| 2.1.3 介质阻挡放电电学特性 | 第30-33页 |
| 2.1.4 介质阻挡放电的影响因素 | 第33-34页 |
| 2.2 辉光放电简介 | 第34-38页 |
| 2.2.1 辉光放电的产生 | 第34-35页 |
| 2.2.2 辉光放电的组成区域和基本特性 | 第35-36页 |
| 2.2.3 空心阴极放电 | 第36-38页 |
| 第三章 高纯度NO_2~+离子源及质谱装置的研发 | 第38-55页 |
| 3.1 装置的整体框架结构 | 第38-39页 |
| 3.2 NO_2~+产生机理 | 第39-40页 |
| 3.3 气路和真空系统 | 第40-42页 |
| 3.4 介质阻挡放电反应器原理与设计 | 第42-48页 |
| 3.4.1 反应器结构 | 第42-43页 |
| 3.4.2 结构设计原理 | 第43页 |
| 3.4.3 介质阻挡反应器电学特性测试 | 第43-48页 |
| 3.5 辉光放电区原理与设计 | 第48-49页 |
| 3.6 离子-分子反应区 | 第49-50页 |
| 3.7 离子传输区 | 第50-51页 |
| 3.8 飞行时间质量分析器 | 第51-55页 |
| 第四章 产生高纯度NO_2~+的影响因素研究 | 第55-68页 |
| 4.1 介质阻挡放电对NO_2~+的纯度影响分析 | 第55-59页 |
| 4.1.1 介质阻挡放电功率的影响 | 第55-57页 |
| 4.1.2 N_2/O_2混合气体比例的影响 | 第57-58页 |
| 4.1.3 介质阻挡放电反应器中气体流量的影响 | 第58-59页 |
| 4.2 辉光放电强度对NO_2~+的影响研究 | 第59页 |
| 4.3 离子-分子反应区电场强度对NO_2~+相关团簇离子的影响 | 第59-60页 |
| 4.4 NO_2/N_2/O_2混合进样方式对NO_2~+产生的研究 | 第60-62页 |
| 4.5 影响高纯度NO_2~+的关键性因素分析 | 第62-68页 |
| 第五章 化学电离质谱高纯度NO_2~+离子源的应用 | 第68-81页 |
| 5.1 NO_2~+与芳香化合物的反应 | 第69-72页 |
| 5.1.1 NO_2~+与芳香化合物反应的种类 | 第69-70页 |
| 5.1.2 NO_2~+和H_3~+与芳香化合物反应的对比分析 | 第70-72页 |
| 5.2 NO_2~+与芳香化合物的反应速率的测定 | 第72-81页 |
| 5.2.1 反应速率常数的测定原理 | 第72-73页 |
| 5.2.2 气相离子-分子反应速率常数与碰撞速率常数计算 | 第73-76页 |
| 5.2.3 反应速率常数的测定结果 | 第76-81页 |
| 第六章 总结与展望 | 第81-83页 |
| 6.1 总结 | 第81-82页 |
| 6.2 展望 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-89页 |
| 附录1 | 第89-91页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第91页 |
