| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-35页 |
| 1.1 表面等离激元 | 第12-14页 |
| 1.2 表面等离激元的激发与金属微腔 | 第14-15页 |
| 1.3 金属微腔的制备和表征 | 第15-17页 |
| 1.4 受限聚合物薄膜:有序微结构的自组织行为 | 第17-22页 |
| 1.5 论文思路 | 第22页 |
| 1.6 论文结构 | 第22-24页 |
| 参考文献 | 第24-35页 |
| 第二章 受限PS/PMMA共混薄膜的退火行为 | 第35-49页 |
| 2.1 引言 | 第35-36页 |
| 2.2 实验流程 | 第36-38页 |
| 2.3 平衬底上PS/PMMA共混薄膜的退火行为 | 第38-39页 |
| 2.4 受限PS/PMMA共混薄膜的退火行为 | 第39-43页 |
| 2.4.1 周期和膜厚对共混薄膜退火形貌的影响 | 第39-42页 |
| 2.4.2 受限PS/PMMA薄膜的原位退火过程 | 第42-43页 |
| 2.5 周期孔洞对PS/PMMA薄膜退火机制的影响 | 第43-45页 |
| 2.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 第三章 受限PS薄膜的成核过程 | 第49-58页 |
| 3.1 引言 | 第49-50页 |
| 3.2 样品的制备与表征 | 第50页 |
| 3.3 PS薄膜的自组织行为 | 第50-54页 |
| 3.3.1 平衬底上PS薄膜的原位退火过程 | 第50-51页 |
| 3.3.2 受限PS薄膜的成核过程 | 第51-54页 |
| 3.4 周期孔洞对PS薄膜退火机制的影响 | 第54-55页 |
| 3.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第四章 以聚合物自组织微结构为模板制备三维金属微腔 | 第58-69页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 实验流程 | 第58-59页 |
| 4.3 三维蘑菇状金属微腔阵列的制备 | 第59-62页 |
| 4.4 三维金属微腔的光学性质 | 第62-64页 |
| 4.5 本章小结 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 第五章 三维金属微腔阵列光学性质的研究 | 第69-86页 |
| 5.1 引言 | 第69-70页 |
| 5.2 样品的制备与表征 | 第70-71页 |
| 5.3 金属孔阵列上金属圆盘对透射光强的影响 | 第71-76页 |
| 5.4 结构参数对透射光谱的调控 | 第76-81页 |
| 5.5 本章小结 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-86页 |
| 第六章 总结与展望 | 第86-89页 |
| 6.1 总结 | 第86-88页 |
| 6.2 展望 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 研究生期间完成的论文 | 第90-91页 |
| 研究生期间参加的学术会议 | 第91-92页 |