基于线性扩散板的高光抑制方法研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究的目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 高光抑制方法国内外研究现状 | 第11-16页 |
| 1.2.1 高光抑制软件方法研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.2 高光抑制硬件方法研究现状 | 第13-16页 |
| 1.3 论文主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 强反射表面编码光测量系统的设计 | 第18-31页 |
| 2.1 结构光三维测量系统 | 第18-22页 |
| 2.2 强反射表面编码光测量系统的设计 | 第22-26页 |
| 2.2.1 基于扩散板的实验平台设计 | 第22-24页 |
| 2.2.2 编码光的选取 | 第24-26页 |
| 2.3 强反射表面编码光测量系统的标定 | 第26-30页 |
| 2.3.1 摄像机的标定 | 第26-28页 |
| 2.3.2 投影仪的标定 | 第28-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 基于辐射度的扩散板抑制高光原理模型建立 | 第31-43页 |
| 3.1 辐照度和辐射度的相关定义 | 第31-33页 |
| 3.2 双向反射分布函数BRDF | 第33-35页 |
| 3.3 强反射表面测量系统中扩散板的选取 | 第35-38页 |
| 3.4 线性扩散板抑制高光原理 | 第38-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 高光抑制实验结果与分析 | 第43-52页 |
| 4.1 强反射表面物体高光抑制实验 | 第43-49页 |
| 4.1.1 大理石罐高光抑制实验及结果分析 | 第43-45页 |
| 4.1.2 陶瓷杯高光抑制实验及结果分析 | 第45-47页 |
| 4.1.3 陶瓷盘高光抑制实验及结果分析 | 第47-49页 |
| 4.2 三组实验数据定量分析 | 第49-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
