NiO基复合薄膜阻变行为的调控
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-20页 |
| ·概述 | 第10-12页 |
| ·RRAMs的 基本物理机制 | 第12-16页 |
| ·阻变行为的传统分类 | 第12-14页 |
| ·阻变行为的新型分类 | 第14-16页 |
| ·NiO阻 变器件的研究现状和发展趋势 | 第16-18页 |
| ·NiO阻变器件的研究现状 | 第16-17页 |
| ·NiO阻变器件的发展趋势 | 第17-18页 |
| ·本论文的立意及研究内容 | 第18-20页 |
| 2 实验方法与表征测试 | 第20-29页 |
| ·溶胶 -凝胶法制备薄膜的原理 | 第20-22页 |
| ·真空热蒸发镀膜的基本原理 | 第22页 |
| ·RRAMs样品的制备流程 | 第22-25页 |
| ·实验所用试剂与仪器 | 第25-26页 |
| ·实验试剂 | 第25页 |
| ·实验仪器 | 第25-26页 |
| ·测试分析方法 | 第26-29页 |
| ·热重 -差热分析 | 第26页 |
| ·X-射 线衍射分析 | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第27页 |
| ·紫外 -可见分光光度分析 | 第27页 |
| ·场发射扫描电子显微镜分析 | 第27-28页 |
| ·X射 线光电子能谱分析 | 第28页 |
| ·I-V性能测试 | 第28-29页 |
| 3 Al/NiO/ITO器件阻变行为的研究 | 第29-42页 |
| ·NiO薄 膜的制备 | 第29-31页 |
| ·NiO前驱体的配置 | 第29-30页 |
| ·NiO薄膜的分析和表征 | 第30-31页 |
| ·Al/NiO/ITO器件的共存阻变行为 | 第31-41页 |
| ·Al/NiO/ITO器件的单极阻变行为 | 第32-33页 |
| ·Al/Ni O/ITO 器件的双极阻变行为 | 第33-34页 |
| ·Al/NiO/ITO器件的阈值阻变行为 | 第34-36页 |
| ·Al/NiO/ITO共存行为的阻变机制 | 第36-39页 |
| ·Al/NiO/ITO阻变重复性的研究 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 4 Al/掺杂NiO/ITO阻变行为的研究 | 第42-53页 |
| ·Al/Li:NiO/ITO阻变行为的研究 | 第42-50页 |
| ·Al/Li:NiO/ITO器件的制备和表征 | 第42-43页 |
| ·Al/Li:NiO/ITO阻变行为的研究 | 第43-46页 |
| ·Al/Li:NiO/ITO阻变行为的机理 | 第46-50页 |
| ·Al/Mn:NiO/ITO阻变行为的研究 | 第50-52页 |
| ·Al/Mn:NiO/ITO器件的制备和表征 | 第50-51页 |
| ·Al/Mn:NiO/ITO器件阻变行为的研究 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 5 复合ZnO/NiO阻变器件的研究 | 第53-60页 |
| ·Al/ZnO/NiO/ITO器件的制备和表征 | 第53-54页 |
| ·Al/NiO/ZnO/ITO阻变行为的研究 | 第54-59页 |
| ·Al/NiO/ZnO/ITO的线性阻变行为 | 第54-55页 |
| ·Al/NiO/ZnO/ITO的非线性阻变行为 | 第55-56页 |
| ·Al/NiO/ZnO/ITO的阻变机理 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 在读期间已发表和待发表的论文 | 第67页 |
