钛合金表面微弧氧化与溶胶凝胶法制备高发射率涂层
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| ·课题背景和研究意义 | 第9-11页 |
| ·高发射率辐射材料的应用及研究概况 | 第11-13页 |
| ·红外辐射基本概念 | 第11-12页 |
| ·高发射率材料的研究现状 | 第12-13页 |
| ·高发射率材料的应用现状 | 第13页 |
| ·高发射率涂层概况 | 第13-18页 |
| ·高发射率涂层的研究现状 | 第13-14页 |
| ·高发射率涂层的制备方法及存在问题 | 第14-16页 |
| ·高发射率涂层的影响因素 | 第16-17页 |
| ·提高涂层发射率的途径 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化技术研究概况 | 第18-19页 |
| ·微弧氧化技术简介 | 第18页 |
| ·微弧氧化技术的特点及优势 | 第18-19页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第20-27页 |
| ·实验材料及药品 | 第20-21页 |
| ·实验设备 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化装置 | 第21页 |
| ·微弧氧化电源 | 第21-22页 |
| ·线切割机 | 第22页 |
| ·试样的制备 | 第22-23页 |
| ·膜层的表征分析手段 | 第23-24页 |
| ·微弧氧化膜层厚度的测试 | 第23页 |
| ·XRD 测试分析 | 第23页 |
| ·扫描电镜（SEM）表面形貌观察 | 第23-24页 |
| ·膜层的能谱分析 | 第24页 |
| ·膜层的性能测试分析 | 第24-27页 |
| ·膜层的剪切强度分析 | 第24-25页 |
| ·膜层的发射率测试 | 第25-27页 |
| 第3章 钛合金微弧氧化膜层的制备及研究 | 第27-38页 |
| ·钛合金微弧氧化涂层制备 | 第27-30页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜层微观组织及表面形貌 | 第30-34页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜层的物相分析 | 第30-31页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌分析 | 第31-34页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜层性能分析 | 第34-37页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜层的结合强度 | 第34-35页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜层的发射率测试 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 复合膜层的制备及研究 | 第38-62页 |
| ·含过渡金属的溶胶及CCTO 溶胶粉体制备及研究 | 第38-45页 |
| ·溶胶粉体的制备 | 第38-39页 |
| ·溶胶粉体的物相分析 | 第39-42页 |
| ·溶胶粉体的红外谱图分析 | 第42-45页 |
| ·复合膜层制备方法及分析 | 第45-52页 |
| ·复合膜层的制备方法 | 第46-48页 |
| ·复合膜层的物相分析 | 第48-50页 |
| ·复合膜层的表面形貌 | 第50-52页 |
| ·复合膜层的性能分析 | 第52-58页 |
| ·复合膜层的剪切强度测试 | 第52-53页 |
| ·红外涂层剪切强度分析 | 第53-55页 |
| ·复合膜层的发射率测试 | 第55-58页 |
| ·红外涂层辐射机理分析 | 第58-60页 |
| ·影响红外涂层发射率因素的理论分析 | 第58-59页 |
| ·复合膜层声子辐射机制 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
