| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·日盲紫外光辐射 | 第7页 |
| ·国内外研究现状 | 第7-8页 |
| ·研究的目的和意义 | 第8-9页 |
| ·本论文的研究工作 | 第9-11页 |
| 第二章 NiO薄膜性质 | 第11-15页 |
| ·NiO薄膜的基本性质 | 第11-12页 |
| ·NiO薄膜的应用 | 第12-13页 |
| ·NiO薄膜的研究现状 | 第13-15页 |
| 第三章 Mg掺杂NiO薄膜的理论和模拟研究 | 第15-25页 |
| ·Mg掺杂元素的选择和作用 | 第15-16页 |
| ·掺杂前后Ni O薄膜性质模拟研究 | 第16-25页 |
| 第四章 磁控溅射法制备Mg掺杂NiO薄膜 | 第25-32页 |
| ·制备工艺 | 第25-28页 |
| ·掺杂前后Ni O薄膜性质对比 | 第28-32页 |
| 第五章 不同工艺条件对Mg掺杂NiO薄膜性质的影响 | 第32-38页 |
| ·溅射功率对Mg掺杂NiO薄膜性质影响 | 第32-34页 |
| ·溅射气体比例对Mg掺杂NiO薄膜性质的影响 | 第34-36页 |
| ·Mg含量对Mg掺杂NiO薄膜性质的影响 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |
| 结论 | 第40-41页 |
| 致谢 | 第41页 |