孪生靶磁控溅射TiAIN硬质膜及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| ·课题背景 | 第10页 |
| ·TiAlN薄膜的性能 | 第10-12页 |
| ·真空镀膜技术 | 第12-14页 |
| ·真空镀膜技术的发展 | 第12-13页 |
| ·真空镀膜技术的应用 | 第13-14页 |
| ·TiAlN薄膜国内外研究现状及发展趋势 | 第14-15页 |
| ·研究现状 | 第14-15页 |
| ·发展趋势 | 第15页 |
| ·选题意义和主要研究内容 | 第15-18页 |
| ·选题意义 | 第15-16页 |
| ·主要研究内容 | 第16-18页 |
| 2 TiAlN薄膜的制备原理及实验方法 | 第18-24页 |
| ·磁控溅射 | 第18-20页 |
| ·磁控溅射原理 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射的发展 | 第19-20页 |
| ·实验设备 | 第20-21页 |
| ·实验方法 | 第21-22页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·实验前基体预处理 | 第21页 |
| ·工艺流程 | 第21-22页 |
| ·薄膜分析测试方法 | 第22-24页 |
| 3 TiAlN薄膜的成分、形貌及膜厚分析 | 第24-38页 |
| ·TiAlN薄膜的形貌分析 | 第24-30页 |
| ·负偏压幅值对薄膜表面形貌的影响 | 第24-25页 |
| ·占空比对TiAlN薄膜形貌的影响 | 第25-27页 |
| ·工作气压对薄膜表面形貌的影响 | 第27-29页 |
| ·靶电流对薄膜表面形貌的影响 | 第29-30页 |
| ·负偏压幅值对TiAlN薄膜成分的影响 | 第30-33页 |
| ·TiAlN薄膜的膜厚分析 | 第33-35页 |
| ·负偏压幅值对膜厚的影响 | 第34页 |
| ·占空比对膜厚的影响 | 第34页 |
| ·工作气压对膜厚的影响 | 第34-35页 |
| ·靶电流对膜厚的影响 | 第35页 |
| ·本章小结 | 第35-38页 |
| 4 TiAlN薄膜的性能分析 | 第38-46页 |
| ·TiAlN薄膜的硬度分析 | 第38-40页 |
| ·负偏压对薄膜硬度的影响 | 第38页 |
| ·占空比对薄膜硬度的影响 | 第38-39页 |
| ·工作气压对薄膜硬度的影响 | 第39页 |
| ·靶电流对薄膜硬度的影响 | 第39-40页 |
| ·TiAlN薄膜的耐蚀性分析 | 第40-44页 |
| ·负偏压幅值对薄膜耐腐蚀性影响 | 第40-41页 |
| ·占空比对薄膜耐腐蚀性影响 | 第41-42页 |
| ·工作气压对薄膜耐腐蚀性影响 | 第42-43页 |
| ·靶电流对薄膜耐腐蚀性影响 | 第43-44页 |
| ·工艺参数优化 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
