| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·课题背景和意义 | 第10页 |
| ·甲烷的化工利用 | 第10-12页 |
| ·甲烷的化工综合利用 | 第10-11页 |
| ·甲烷制取合成气的方法 | 第11-12页 |
| ·甲烷部分氧化制合成气的反应机理 | 第12-13页 |
| ·间接氧化机理 | 第12-13页 |
| ·直接氧化机理 | 第13页 |
| ·甲烷部分氧化反应中催化剂的研究 | 第13-16页 |
| ·负载型贵金属催化剂 | 第14-15页 |
| ·负载型非贵金属催化剂 | 第15-16页 |
| ·金属氧化物催化剂 | 第16页 |
| ·甲烷部分氧化反应中催化剂的积炭研究 | 第16-18页 |
| ·积炭的形成 | 第16-17页 |
| ·积炭的抑制 | 第17-18页 |
| ·氧化铈及铈基复合氧化物载体的研究 | 第18-19页 |
| ·本文研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 实验过程及方法 | 第20-29页 |
| ·实验所用化学试剂和原料 | 第20页 |
| ·实验仪器和设备 | 第20-21页 |
| ·催化剂的制备 | 第21-23页 |
| ·不同方法制备 Ni/CeO_2-Al_2O_3 | 第21-22页 |
| ·Ni/M_xO_y/CeO_2-ZrO_2(M = Cu, Ba, Al)的制备 | 第22-23页 |
| ·Ni/xCeO_2-(1-x)SiO_2(x = 0, 0.25, 0.50, 0.75, 1)的制备 | 第23页 |
| ·催化剂的活性测试 | 第23-25页 |
| ·催化剂的活性评价装置 | 第23-24页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第24-25页 |
| ·催化性能指标的计算 | 第25页 |
| ·催化剂的表征 | 第25-29页 |
| ·N2物理吸附-脱附(BET) | 第25-26页 |
| ·X 射线粉末衍射(XRD) | 第26页 |
| ·傅里叶变换红外(FT-IR) | 第26页 |
| ·紫外-可见漫反射(UV-Vis DRS) | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
| ·H_(2-)程序升温还原(H2-TPR) | 第27页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第27页 |
| ·NH_(3-)程序升温脱附(NH3-TPD) | 第27页 |
| ·热重(TG)分析积炭量 | 第27-29页 |
| 第三章 Ni/CeO_2-Al_2O_3催化剂对甲烷催化部分氧化性能的研究 | 第29-50页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·催化剂的表征 | 第29-38页 |
| ·催化剂的组织性能 | 第29-32页 |
| ·催化剂的红外光谱分析(FT-IR) | 第32-33页 |
| ·催化剂的还原性能分析(H2-TPR) | 第33-35页 |
| ·催化剂的 X 射线光电子能谱分析(XPS) | 第35-36页 |
| ·催化剂的形貌分析(SEM) | 第36-37页 |
| ·催化剂的表面酸性分析(NH3-TPD) | 第37-38页 |
| ·催化剂的积炭分析(TG) | 第38页 |
| ·催化性能评价 | 第38-43页 |
| ·制备方法的影响 | 第38-40页 |
| ·Ni 负载量的影响 | 第40-41页 |
| ·焙烧温度的影响 | 第41-43页 |
| ·甲烷部分氧化反应工艺参数的探究 | 第43-49页 |
| ·原料气配比的影响 | 第43页 |
| ·反应温度的影响 | 第43-44页 |
| ·反应物空速的影响 | 第44-45页 |
| ·惰性气体稀释的影响 | 第45-46页 |
| ·还原条件的影响 | 第46-48页 |
| ·稳定性测试 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第四章 Ni/M_xO_y/CeO_2-ZrO_2催化剂对甲烷催化部分氧化性能的研究 | 第50-64页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·催化剂的表征 | 第50-58页 |
| ·催化剂的比表面积 | 第50-51页 |
| ·催化剂的物相结构 | 第51-53页 |
| ·催化剂的还原性能 | 第53-56页 |
| ·催化剂的表面形貌 | 第56-57页 |
| ·载体的表面酸性 | 第57页 |
| ·催化剂的积炭 | 第57-58页 |
| ·催化性能测试 | 第58-63页 |
| ·助剂对 CeO_2-ZrO_2固溶体的影响 | 第58-60页 |
| ·Ni 含量的影响 | 第60-61页 |
| ·焙烧温度的影响 | 第61-62页 |
| ·稳定性测试 | 第62-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第五章 Ni/CeO_2-SiO_2催化剂对甲烷催化部分氧化性能的研究 | 第64-79页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·催化剂的表征 | 第64-73页 |
| ·催化剂的比表面积(BET) | 第64-65页 |
| ·催化剂的 XRD 分析 | 第65-68页 |
| ·催化剂的 SEM 分析 | 第68-69页 |
| ·催化剂的 UV-Vis DRS 分析 | 第69页 |
| ·催化剂的 TPR 分析 | 第69-71页 |
| ·NH3-TPD 的表征分析 | 第71-72页 |
| ·催化剂的 TG 分析 | 第72-73页 |
| ·催化性能测试 | 第73-77页 |
| ·Ni 含量的影响 | 第73-74页 |
| ·载体中 Ce/Si 摩尔比的影响 | 第74-75页 |
| ·焙烧温度的影响 | 第75-76页 |
| ·催化剂的稳定性 | 第76-77页 |
| ·小结 | 第77-79页 |
| 第六章 结论 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 个人简介及硕士期间发表的论文 | 第89页 |
