| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·陶瓷砖的分类 | 第11-13页 |
| ·陶瓷砖按吸水率的分类 | 第12页 |
| ·陶瓷砖按用途分类 | 第12页 |
| ·陶瓷砖按工艺分类 | 第12-13页 |
| ·防静电材料 | 第13-17页 |
| ·静电材料的分类 | 第14页 |
| ·材料防静电改性 | 第14-15页 |
| ·陶瓷基复合材料的导电机理 | 第15-16页 |
| ·防静电地面材料的电性能要求 | 第16-17页 |
| ·课题的提出 | 第17-19页 |
| ·课题意义 | 第17-18页 |
| ·研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 实验方法与理论基础 | 第19-32页 |
| ·实验原料 | 第19-20页 |
| ·实验设备 | 第20页 |
| ·相关技术理论 | 第20-23页 |
| ·Fe 的氧化物 | 第20-21页 |
| ·陶瓷砖的制备工艺 | 第21-22页 |
| ·制备工艺对陶瓷砖强度的影响 | 第22-23页 |
| ·测试表征方法 | 第23-31页 |
| ·抗弯强度测试 | 第23-24页 |
| ·颗粒粒度分析 | 第24页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第24-25页 |
| ·X 射线荧光光谱分析 | 第25-26页 |
| ·材料吸水率、显气孔率和表观密度分析 | 第26-27页 |
| ·综合热分析 | 第27-28页 |
| ·体电阻率及电导率测试 | 第28-29页 |
| ·泥浆稳定性测试 | 第29-30页 |
| ·扫描电镜分析 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 高氧化铁含量陶瓷砖的制备工艺 | 第32-47页 |
| ·前言 | 第32页 |
| ·原料 A 的成分分析 | 第32-35页 |
| ·X 射线荧光光谱分析 | 第32-33页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第33页 |
| ·显微结构分析 | 第33-35页 |
| ·坯体的制备 | 第35-38页 |
| ·配料 | 第35-36页 |
| ·浆料稳定性分析 | 第36-37页 |
| ·坯体成型 | 第37-38页 |
| ·陶瓷砖的烧成制度 | 第38-46页 |
| ·综合热分析 | 第39-40页 |
| ·升温速率的影响 | 第40-43页 |
| ·最高温度的影响 | 第43-45页 |
| ·保温时间的影响 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 高氧化铁含量陶瓷砖性能的影响因素 | 第47-64页 |
| ·前言 | 第47页 |
| ·正交试验设计 | 第47-49页 |
| ·正交试验性能测试 | 第49-50页 |
| ·正交试验结果分析 | 第50-61页 |
| ·XRD 结果分析 | 第50-51页 |
| ·吸水率结果分析 | 第51-53页 |
| ·显气孔率结果分析 | 第53-54页 |
| ·表观密度结果分析 | 第54-55页 |
| ·抗折强度结果分析 | 第55-56页 |
| ·体电阻率结果分析 | 第56-58页 |
| ·正交试验优配方的确定 | 第58-61页 |
| ·气氛对高氧化铁含量陶瓷砖的影响 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 高氧化铁含量防静电陶瓷砖的制备 | 第64-71页 |
| ·前言 | 第64页 |
| ·高氧化铁含量防静电陶瓷砖的配方设计 | 第64页 |
| ·高氧化铁含量防静电陶瓷砖球磨时间与烧成温度的确定 | 第64-66页 |
| ·球磨时间 | 第64-65页 |
| ·烧成温度 | 第65-66页 |
| ·高氧化铁含量防静电陶瓷砖配方的确定 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 附件 | 第78页 |