| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·高频磁性理论 | 第7-10页 |
| ·高频磁性材料 | 第10-12页 |
| ·论文研究的问题 | 第12-13页 |
| 参考文献 | 第13-14页 |
| 第二章 金属铁磁薄膜的制备及测试 | 第14-22页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第14-15页 |
| ·薄膜样品的测量 | 第15-21页 |
| ·薄膜结构表征 | 第15-16页 |
| ·静态磁性表征 | 第16-17页 |
| ·动态磁性表征 | 第17-21页 |
| 参考文献 | 第21-22页 |
| 第三章 Co-Zr薄膜阻尼因子的调控 | 第22-32页 |
| ·Co_(92)Zr_8/Ag薄膜的制备 | 第22-23页 |
| ·Ag缓冲层对Co_(92)Zr_8薄膜静态磁性的影响 | 第23-24页 |
| ·Ag缓冲层对Co_(92)Zr_8薄膜阻尼因子的调节 | 第24-28页 |
| ·有效阻尼因子的来源 | 第28-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-32页 |
| 第四章 Permalloy薄膜的磁畴结构及高频磁性 | 第32-41页 |
| ·样品的制备 | 第32-33页 |
| ·Permalloy薄膜的静态磁性 | 第33-36页 |
| ·斜溅射条纹畴薄膜磁畴随外磁场的演化 | 第36-37页 |
| ·Permalloy薄膜的高频磁性 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第五章 Ni薄膜的磁畴结构及高频磁性 | 第41-48页 |
| ·Ni薄膜的制备 | 第41页 |
| ·Ni薄膜的静态磁性 | 第41-42页 |
| ·Ni薄膜磁畴结构变化的原因 | 第42-45页 |
| ·多层膜结构对条纹畴的抑制 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第六章 总结及展望 | 第48-50页 |
| ·总结 | 第48页 |
| ·展望 | 第48-50页 |
| 附录 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
