摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-18页 |
·研究背景与意义 | 第8-11页 |
·研究意义 | 第8-10页 |
·研究背景 | 第10-11页 |
·激光通信系统 | 第11-14页 |
·激光通信介绍 | 第11-12页 |
·激光通信原理 | 第12-14页 |
·国内外发展现状 | 第14-16页 |
·国外发展 | 第14-15页 |
·国内发展 | 第15-16页 |
·本文的主要工作 | 第16-18页 |
第二章 自由空间激光通信用探测器 | 第18-22页 |
·用于自由空间激光通信的几种探测器 | 第18-20页 |
·PIN 探测器 | 第18-19页 |
·APD 探测器 | 第19页 |
·MSM 探测器 | 第19-20页 |
·几种典型的Ⅲ-Ⅴ族半导体红外探测器 | 第20-21页 |
·本章小结 | 第21-22页 |
第三章 MSM 探测器 | 第22-30页 |
·MSM 光电探测器工作原理 | 第22页 |
·MSM 器件的能带结构 | 第22-25页 |
·MSM 探测器的几个重要性能参数 | 第25-28页 |
·器件的响应度和量子效率 | 第25-26页 |
·探测率与暗电流 | 第26-27页 |
·频率响应 | 第27-28页 |
·本章小结 | 第28-30页 |
第四章 金属-半导体-金属(MSM)红外探测器结构设计 | 第30-42页 |
·基本原理 | 第30-32页 |
·InGaAs-MSM 光电探测器概述 | 第30-31页 |
·InGaAs-MSM 光电探测器阵列发展 | 第31-32页 |
·MSM 红外探测器结构设计 | 第32-40页 |
·MSM 探测器设计原理 | 第32-36页 |
·器件的图型设计 | 第36-38页 |
·外延结构设计 | 第38-40页 |
·本章小结 | 第40-42页 |
第五章 探测器相关工艺介绍 | 第42-50页 |
·MOCVD 介绍 | 第42-44页 |
·MOCVD 概念与原理 | 第42-43页 |
·MOCVD 设备简介 | 第43-44页 |
·器件制作工艺流程 | 第44-46页 |
·光刻工艺介绍 | 第44-45页 |
·刻蚀技术介绍 | 第45-46页 |
·电极的制作 | 第46-47页 |
·器件的封装 | 第47-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第六章 器件性能测试 | 第50-60页 |
·器件外延层性能测试 | 第50-51页 |
·X 射线衍射测试 | 第50页 |
·器件的光致发光(PL)谱 | 第50-51页 |
·器件性能测试 | 第51-59页 |
·器件脉冲响应测试 | 第52-54页 |
·响应度测试 | 第54-55页 |
·I-V 特性测试 | 第55-57页 |
·混频测试 | 第57-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
第七章 总结与展望 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-64页 |
硕士期间发表论文 | 第64-66页 |
致谢 | 第66页 |