| 摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-26页 |
| ·多铁性材料 | 第14-16页 |
| ·物质的铁电性 | 第14-15页 |
| ·物质的铁磁性 | 第15-16页 |
| ·BiFe0_3材料的概况 | 第16-24页 |
| ·BiFeO_3的结构 | 第16-17页 |
| ·BiFe0_3材料的研究进展 | 第17-18页 |
| ·BiFe0_3薄膜存在的主要问题及解决办法 | 第18-23页 |
| ·BiFe0_3薄膜可能的应用 | 第23-24页 |
| ·本论文的主要研究工作 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方案设计与研究方法 | 第26-34页 |
| ·实验原料和所需设备 | 第26-27页 |
| ·铁电薄膜的制备 | 第27-30页 |
| ·铁电薄膜制备工艺 | 第27页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第27-28页 |
| ·制备 BiFe0_3-基薄膜的工艺流程 | 第28-30页 |
| ·性能测试方法 | 第30-34页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第30页 |
| ·铁电性能测试 | 第30-31页 |
| ·原子力显微镜 | 第31-34页 |
| 第三章 LaNi0_3(100)/Si 电极的制备 | 第34-41页 |
| ·前驱体中聚乙二醇含量对LaNiO_3薄膜形貌影响 | 第34-35页 |
| ·预处理温度对LaNi0_3薄膜形貌影响 | 第35-36页 |
| ·退火温度对LaNi0_3薄膜形貌影响 | 第36-37页 |
| ·用最优工艺制备的LaNi0_3薄膜 | 第37-39页 |
| ·LaNi0_3薄膜 XRD 图谱分析 | 第37-38页 |
| ·LaNi0_3薄膜的形貌分析 | 第38-39页 |
| ·沉积在 LaNi0_3(100)/Si 电极上的 BiFe0_3薄膜 XRD 图谱 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 第四章 BiFe_(1-x)W_x0_3薄膜的结构和电学性能的研究 | 第41-54页 |
| ·BiFe_(1-x)W_x0_3薄膜的结构分析 | 第42-43页 |
| ·BiFe_(1-x)W_x0_3薄膜的形貌分析 | 第43-45页 |
| ·BiFe_(1-x)W_x0_3薄膜的漏电分析 | 第45-46页 |
| ·BiFe_(1-x)W_x0_3薄膜的铁电分析 | 第46-47页 |
| ·BiFe_(1-x)W_x0_3 WO薄膜的压电分析 | 第47-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 第五章 退火温度对 BiFe_(0.995)W_(0.005)0_3薄膜的影响 | 第54-62页 |
| ·退火温度对 BiFe_(0.995)W_(0.005)0_3薄膜结构的影响 | 第55-56页 |
| ·退火温度对 BiFe_(0.995)W_(0.005)0_3薄膜压电性能的影响 | 第56-60页 |
| ·退火温度的 BiFe_(0.995)W_(0.005)0_3薄膜压电响应图 | 第56-57页 |
| ·退火温度的 BiFe_(0.995)W_(0.005)0_3薄膜剩余压电系数 | 第57-59页 |
| ·退火温度的 BiFe_(0.995)W_(0.005)0_3薄膜压电响应深度柱状图 | 第59-60页 |
| ·小结 | 第60-62页 |
| 第六章 沉积到不同氧化物电极上的 Cu 和 W 共掺对 BiFe0_3薄膜的影响 | 第62-73页 |
| ·在 ITO/glass 衬底上 Cu 和 W 掺杂对 BiFeO_3薄膜结构的影响 | 第63-64页 |
| ·在 ITO/glass 衬底上 Cu 和 W 掺杂对 BiFe0_3薄膜压电的影响 | 第64-67页 |
| ·在 LaNi0_3(100)/Si 衬底上 Cu 和 W 掺杂对 BiFe0_3薄膜结构的影响 | 第67-68页 |
| ·在 LaNi0_3(100)/Si 衬底上 Cu 和 W 掺杂对 BiFe0_3薄膜压电的影响 | 第68-71页 |
| ·小结 | 第71-73页 |
| 第七章 结论与展望 | 第73-75页 |
| ·主要研究结论 | 第73页 |
| ·主要创新点 | 第73-74页 |
| ·工作展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 附录 | 第83-84页 |
