| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| ·ZnO的基本结构、性质及用途 | 第8-11页 |
| ·ZnO的基本结构 | 第8-10页 |
| ·ZnO的性质及用途 | 第10-11页 |
| ·ZnO薄膜的几种主要制备方法 | 第11-13页 |
| ·ZnO的本征缺陷与掺杂 | 第13-20页 |
| ·ZnO的本征缺陷 | 第13-15页 |
| ·ZnO的n、p型掺杂 | 第15-18页 |
| ·ZnO稀磁半导体的理论和实验研究 | 第18-20页 |
| ·本论文的选题依据和主要工作 | 第20-22页 |
| 第二章 实验基本原理、过程及测试手段 | 第22-40页 |
| ·离子与固体相互作用过程的基础理论 | 第22-32页 |
| ·离子注入基本原理 | 第22-24页 |
| ·能量损失的描述 | 第24-28页 |
| ·入射离子的射程分布 | 第28-32页 |
| ·ZnO薄膜的制备及离子注入 | 第32-35页 |
| ·ZnO薄膜样品的制备 | 第32页 |
| ·样品的离子注入及退火 | 第32-35页 |
| ·样品结构和物性表征及基本原理简介 | 第35-40页 |
| ·结构表征及元素的价态分析 | 第35-37页 |
| ·光学性质测量 | 第37-38页 |
| ·电学性质和磁性质的测量 | 第38-40页 |
| 第三章 P离子注入的ZnO薄膜结构、光学及电学性质 | 第40-60页 |
| ·结构的演变 | 第40-47页 |
| ·离子注入后结构的变化 | 第40-44页 |
| ·退火处理后样品结构的变化 | 第44-47页 |
| ·光学性质的变化 | 第47-56页 |
| ·离子注入后光学性质的变化 | 第47-49页 |
| ·退火后光学性质的变化 | 第49-56页 |
| ·电学性质的变化 | 第56-58页 |
| ·离子注入后电学性质的变化 | 第56-57页 |
| ·退火后电学性质的变化 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 P离子注入ZnO:B薄膜的结果分析 | 第60-68页 |
| ·结构演变 | 第60-63页 |
| ·光学性质 | 第63-66页 |
| ·电学性质 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 Fe、C离子注入ZnO薄膜的结构、光学及磁性质 | 第68-86页 |
| ·Fe离子注入ZnO薄膜样品的结构、光学及磁性质 | 第68-75页 |
| ·Fe离子注入ZnO薄膜的结构 | 第68-72页 |
| ·Fe离子注入ZnO薄膜的光学性质 | 第72-74页 |
| ·Fe离子注入ZnO薄膜的磁性质 | 第74-75页 |
| ·Fe、C离子共掺杂ZnO薄膜样品的结构、光学及磁性质 | 第75-83页 |
| ·结构特征 | 第75-79页 |
| ·光学性质 | 第79-81页 |
| ·磁性质 | 第81-83页 |
| ·本章小结 | 第83-86页 |
| 第六章 结论 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-100页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第100-101页 |
| 致谢 | 第101页 |
