摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
目录 | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-23页 |
·引言 | 第9-10页 |
·半导体光催化机理 | 第10-12页 |
·半导体光催化剂的合成方法及表征手段 | 第12-13页 |
·半导体光催化剂催化性能提升措施 | 第13-19页 |
·暴露特定高能晶面 | 第13-14页 |
·表面光敏化 | 第14页 |
·纳米尺寸光催化剂 | 第14-15页 |
·贵金属表面修饰 | 第15-16页 |
·金属掺杂 | 第16-17页 |
·非金属掺杂 | 第17页 |
·表面超强酸修饰以及加入强氧化剂 | 第17-18页 |
·半导体复合 | 第18-19页 |
·可见光光催化新材料的设计基础 | 第19-20页 |
·基于能带结构设计 | 第19页 |
·固溶体结构光催化剂 | 第19-20页 |
·光催化剂的应用现状及前景 | 第20-21页 |
·本文的研究内容和意义 | 第21-23页 |
第二章 尺寸及高比例{001}晶面的单晶 NaY(MoO_4)_2的可控合成及光催化性质研究 | 第23-38页 |
·引言 | 第23-24页 |
·实验内容 | 第24-26页 |
·实验仪器和试剂 | 第24-25页 |
·实验仪器 | 第24-25页 |
·实验试剂 | 第25页 |
·实验步骤 | 第25-26页 |
·NaY(MoO_4)_2的可控合成 | 第25页 |
·光催化降解实验 | 第25-26页 |
·结果和讨论 | 第26-36页 |
·产物形貌的影响因素分析 | 第26-27页 |
·粉末 X-射线衍射分析 | 第27页 |
·场发射扫描电镜及高分辨透射电镜分析 | 第27-28页 |
·产物形貌的形成机理 | 第28-31页 |
·能带结构的研究 | 第31-32页 |
·光催化性能及机理研究 | 第32-36页 |
·光催化性能研究 | 第32-34页 |
·光催化机理研究 | 第34-36页 |
·本章小结 | 第36-38页 |
第三章 纳米结构的NaBi(MoO_4)_2及AgBi(WO_4)_2的制备和光解水性质研究 | 第38-48页 |
·引言 | 第38-39页 |
·实验内容 | 第39-41页 |
·实验仪器和试剂 | 第39-40页 |
·实验仪器 | 第39-40页 |
·实验试剂 | 第40页 |
·实验步骤 | 第40-41页 |
·NaBi(MoO_4)_2的制备 | 第40页 |
·AgBi(WO_4)_2的制备 | 第40-41页 |
·NaBi(MoO_4)_2/AgBi(WO_4)_2的光解水性质研究 | 第41页 |
·结果与讨论 | 第41-47页 |
·粉末 X-射线衍射分析 | 第41-42页 |
·场发射扫描电镜图分析 | 第42-43页 |
·EDX 分析 | 第43页 |
·pH 对产物形貌的影响 | 第43-44页 |
·紫外漫反射谱分析 | 第44-45页 |
·光解水性能及机理研究 | 第45-47页 |
·光解水性能研究 | 第45-46页 |
·光解水机理研究 | 第46-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第四章 BiOI 及 BiOI/AgX(X=O、I)的可控制备及增强的光催化活性研究 | 第48-62页 |
·引言 | 第48-49页 |
·实验内容 | 第49-52页 |
·实验仪器和试剂 | 第49-50页 |
·实验仪器 | 第49-50页 |
·实验试剂 | 第50页 |
·实验步骤 | 第50-52页 |
·BiOI 的制备 | 第50页 |
·BiOI/Ag_2O 的制备 | 第50页 |
·BiOI/AgI 的制备 | 第50-51页 |
·BiOI/Ag_2O 的光催化性质测试 | 第51页 |
·BiOI/AgI 的光催化性质测试 | 第51-52页 |
·结果与讨论 | 第52-60页 |
·粉末 X-射线衍射分析 | 第52-53页 |
·场发射扫描电镜分析 | 第53页 |
·EDX 分析 | 第53-54页 |
·紫外-可见漫反射谱及能带结构的分析 | 第54-55页 |
·光催化性能及催化机理研究 | 第55-60页 |
·光催化性能的研究 | 第55-59页 |
·光催化机理的研究 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
结论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
攻读硕士学位阶段发表的学术论文及发明专利 | 第71页 |