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新型半导体光催化材料的可控制备及光催化性质研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-7页
目录第7-9页
第一章 绪论第9-23页
   ·引言第9-10页
   ·半导体光催化机理第10-12页
   ·半导体光催化剂的合成方法及表征手段第12-13页
   ·半导体光催化剂催化性能提升措施第13-19页
     ·暴露特定高能晶面第13-14页
     ·表面光敏化第14页
     ·纳米尺寸光催化剂第14-15页
     ·贵金属表面修饰第15-16页
     ·金属掺杂第16-17页
     ·非金属掺杂第17页
     ·表面超强酸修饰以及加入强氧化剂第17-18页
     ·半导体复合第18-19页
   ·可见光光催化新材料的设计基础第19-20页
     ·基于能带结构设计第19页
     ·固溶体结构光催化剂第19-20页
   ·光催化剂的应用现状及前景第20-21页
   ·本文的研究内容和意义第21-23页
第二章 尺寸及高比例{001}晶面的单晶 NaY(MoO_4)_2的可控合成及光催化性质研究第23-38页
   ·引言第23-24页
   ·实验内容第24-26页
     ·实验仪器和试剂第24-25页
       ·实验仪器第24-25页
       ·实验试剂第25页
     ·实验步骤第25-26页
       ·NaY(MoO_4)_2的可控合成第25页
       ·光催化降解实验第25-26页
   ·结果和讨论第26-36页
     ·产物形貌的影响因素分析第26-27页
     ·粉末 X-射线衍射分析第27页
     ·场发射扫描电镜及高分辨透射电镜分析第27-28页
     ·产物形貌的形成机理第28-31页
     ·能带结构的研究第31-32页
     ·光催化性能及机理研究第32-36页
       ·光催化性能研究第32-34页
       ·光催化机理研究第34-36页
   ·本章小结第36-38页
第三章 纳米结构的NaBi(MoO_4)_2及AgBi(WO_4)_2的制备和光解水性质研究第38-48页
   ·引言第38-39页
   ·实验内容第39-41页
     ·实验仪器和试剂第39-40页
       ·实验仪器第39-40页
       ·实验试剂第40页
     ·实验步骤第40-41页
       ·NaBi(MoO_4)_2的制备第40页
       ·AgBi(WO_4)_2的制备第40-41页
     ·NaBi(MoO_4)_2/AgBi(WO_4)_2的光解水性质研究第41页
   ·结果与讨论第41-47页
     ·粉末 X-射线衍射分析第41-42页
     ·场发射扫描电镜图分析第42-43页
     ·EDX 分析第43页
     ·pH 对产物形貌的影响第43-44页
     ·紫外漫反射谱分析第44-45页
     ·光解水性能及机理研究第45-47页
       ·光解水性能研究第45-46页
       ·光解水机理研究第46-47页
   ·本章小结第47-48页
第四章 BiOI 及 BiOI/AgX(X=O、I)的可控制备及增强的光催化活性研究第48-62页
   ·引言第48-49页
   ·实验内容第49-52页
     ·实验仪器和试剂第49-50页
       ·实验仪器第49-50页
       ·实验试剂第50页
     ·实验步骤第50-52页
       ·BiOI 的制备第50页
       ·BiOI/Ag_2O 的制备第50页
       ·BiOI/AgI 的制备第50-51页
       ·BiOI/Ag_2O 的光催化性质测试第51页
       ·BiOI/AgI 的光催化性质测试第51-52页
   ·结果与讨论第52-60页
     ·粉末 X-射线衍射分析第52-53页
     ·场发射扫描电镜分析第53页
     ·EDX 分析第53-54页
     ·紫外-可见漫反射谱及能带结构的分析第54-55页
     ·光催化性能及催化机理研究第55-60页
       ·光催化性能的研究第55-59页
       ·光催化机理的研究第59-60页
   ·本章小结第60-62页
结论第62-63页
参考文献第63-70页
致谢第70-71页
攻读硕士学位阶段发表的学术论文及发明专利第71页

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