| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第10-12页 |
| ·国内外研究进展及现状 | 第12-15页 |
| ·Mg-Li 合金研究现状 | 第12页 |
| ·Mg-Li 合金的腐蚀行为 | 第12-14页 |
| ·Mg-Li 合金表面处理现状 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术研究现状 | 第15-20页 |
| ·微弧氧化发展概述 | 第15-17页 |
| ·镁合金微弧氧化技术现状 | 第17-18页 |
| ·镁合金微弧氧化陶瓷膜制备影响因素 | 第18-19页 |
| ·Mg-Li 合金微弧氧化陶瓷膜耐蚀性评价方法 | 第19-20页 |
| ·课题的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第21-25页 |
| ·实验材料及化学试剂 | 第21-22页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·化学试剂 | 第21-22页 |
| ·实验设备 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化装置 | 第22页 |
| ·微弧氧化电源 | 第22-23页 |
| ·实验方法 | 第23-25页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜层的制备 | 第23页 |
| ·微组织与结构显分析方法 | 第23-24页 |
| ·陶瓷膜层性能评价方法 | 第24-25页 |
| 第3章 Na_2SiO_3体系下镁锂合金微弧氧化陶瓷膜制备及其耐蚀性 | 第25-50页 |
| ·单相脉冲电源模式下耐蚀陶瓷膜的制备 | 第25-41页 |
| ·电解液组分对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第25-32页 |
| ·电源参数对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第32-37页 |
| ·Na_2B_4O_7 掺杂对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第37-41页 |
| ·双相脉冲电源模式下耐蚀陶瓷膜的制备 | 第41-49页 |
| ·双相恒流模式下陶瓷膜的结构和性能 | 第41-43页 |
| ·正相恒流、负相恒压条件下陶瓷膜的结构和耐蚀性 | 第43-46页 |
| ·不同电源模式下制备的陶瓷膜结构和性能对比 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 Na_3PO_4体系镁锂合金微弧氧化陶瓷膜制备及其耐蚀性 | 第50-58页 |
| ·电解液及工艺参数对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第50-54页 |
| ·正交实验优化电解液配方及电源参数 | 第50-52页 |
| ·处理时间对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第52-54页 |
| ·不同添加剂对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第54-56页 |
| ·添加剂对陶瓷膜厚度及槽压-时间曲线的影响 | 第54-55页 |
| ·添加剂对陶瓷膜表面形貌的影响 | 第55-56页 |
| ·添加剂掺杂对陶瓷膜相组成的影响 | 第56页 |
| ·添加剂对陶瓷膜耐蚀性的影响 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 Na_2SiO_3-Na_3PO_4混合体系镁锂合金微弧氧化陶瓷膜制备及其耐蚀性 | 第58-74页 |
| ·工艺参数对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第58-65页 |
| ·电解液浓度对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第58-60页 |
| ·占空比对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第60-62页 |
| ·频率对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第62-63页 |
| ·处理时间对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第63-64页 |
| ·陶瓷膜结构和耐蚀性的关系 | 第64-65页 |
| ·不同添加剂对陶瓷膜结构和耐蚀性的影响 | 第65-70页 |
| ·添加剂对槽压-时间曲线及陶瓷膜厚度的影响 | 第65-66页 |
| ·添加剂对陶瓷膜表面及截面形貌的影响 | 第66-67页 |
| ·添加剂对陶瓷膜成分的影响 | 第67-69页 |
| ·添加剂对陶瓷膜耐蚀性的影响 | 第69-70页 |
| ·三种体系制备的陶瓷膜结构和耐蚀性能对比 | 第70-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
