| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-24页 |
| ·陶瓷轴承的应用及发展 | 第13-16页 |
| ·氮化硅陶瓷轴承 | 第14-15页 |
| ·NCD 轴承涂层 | 第15-16页 |
| ·NCD 薄膜的研究现状 | 第16-22页 |
| ·NCD 薄膜的性能及应用 | 第17-19页 |
| ·NCD 薄膜的制备技术 | 第19-21页 |
| ·NCD 薄膜的表征技术 | 第21-22页 |
| ·本课题的研究意义和研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 NCD 薄膜制备过程中系统传热传质分析 | 第24-36页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·温度与气相空间分布对金刚石薄膜制备的影响 | 第24-28页 |
| ·衬底温度场及气相空间场的数值研究现状 | 第28页 |
| ·HFCVD 系统中的传热传质过程研究 | 第28-35页 |
| ·气氛对衬底温度的影响 | 第28-30页 |
| ·HFCVD 系统中的传热过程 | 第30-33页 |
| ·HFCVD 系统中的传质过程 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 NCD 涂层制备过程中的衬底温度场模拟 | 第36-46页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·平面衬底NCD 涂层制备过程中衬底温度场的数值分析 | 第36-38页 |
| ·平面衬底温度场的有限元模型 | 第36-37页 |
| ·结果分析与讨论 | 第37-38页 |
| ·制备轴承NCD 涂层的电极设计 | 第38-40页 |
| ·轴承内圈NCD 涂层制备过程中的温度场的数值分析 | 第40-42页 |
| ·有限元模型的建立 | 第40页 |
| ·结果分析与讨论 | 第40-42页 |
| ·轴承外圈NCD 涂层制备过程中的温度场的数值分析 | 第42-45页 |
| ·有限元模型的建立 | 第42-43页 |
| ·结果分析与讨论 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 陶瓷轴承NCD 涂层制备过程中的气相空间场模拟 | 第46-58页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·平面衬底NCD 涂层制备过程中的气相空间场 | 第46-51页 |
| ·有限元模型的建立 | 第46-47页 |
| ·结果分析与讨论 | 第47-51页 |
| ·轴承内圈NCD 涂层制备过程中的气相空间场 | 第51-54页 |
| ·有限元模型的建立 | 第51页 |
| ·结果分析与讨论 | 第51-54页 |
| ·轴承外圈NCD 涂层制备过程中的气相空间场 | 第54-56页 |
| ·有限元模型的建立 | 第54页 |
| ·结果分析与讨论 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 陶瓷轴承内外圈上NCD 涂层的制备 | 第58-71页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·NCD 涂层的制备 | 第58-60页 |
| ·沉积设备 | 第58-59页 |
| ·衬底表面预处理 | 第59-60页 |
| ·NCD 薄膜的生长 | 第60页 |
| ·实验结果与讨论 | 第60-70页 |
| ·NCD 涂层的质量 | 第60-64页 |
| ·NCD 涂层的表面形貌 | 第64-68页 |
| ·NCD 涂层的纳米压痕力学性能 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 总结与展望 | 第71-73页 |
| ·总结 | 第71-72页 |
| ·展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的论文及研究成果 | 第79页 |
