| 摘 要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·铁电材料及其应用 | 第8-10页 |
| ·集成铁电薄膜器件的电极材料 | 第10-12页 |
| ·LSCO 材料的结构和性质 | 第12页 |
| ·LSCO 薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| ·LSCO 薄膜在各种基片上的微观结构和生长机理 | 第14-16页 |
| ·LSCO 薄膜的应用和研究现状 | 第16-17页 |
| ·本论文的主要工作 | 第17-18页 |
| 第二章 实验基本原理 | 第18-27页 |
| ·LSCO 薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| ·PLD 基本原理 | 第18-19页 |
| ·PLD 的技术优势 | 第19-20页 |
| ·LSCO 薄膜微观结构表征方法 | 第20-24页 |
| ·X 射线衍射原理 | 第20-21页 |
| ·AFM 的工作原理 | 第21-23页 |
| ·SEM 的工作原理 | 第23-24页 |
| ·LSCO 薄膜电性能测试方法 | 第24-27页 |
| ·四探针测量原理 | 第24-25页 |
| ·介电性能测试方法 | 第25-27页 |
| 第三章 LSCO 靶材的制备 | 第27-32页 |
| ·实验过程 | 第27-28页 |
| ·实验结果与讨论 | 第28-32页 |
| ·粉末微观结构分析 | 第28页 |
| ·LSCO 靶的XRD 分析 | 第28-29页 |
| ·硝酸钴过量系数对烧结体显微结构的影响 | 第29-30页 |
| ·压制压力对烧结体微观结构的影响 | 第30-32页 |
| 第四章 LSCO 薄膜的PLD 工艺研究 | 第32-49页 |
| ·工艺参数对STO 基片上沉积LSCO 薄膜的影响 | 第32-38页 |
| ·沉积温度对LSCO 薄膜的影响 | 第32-35页 |
| ·氧气压对LSCO 薄膜的影响 | 第35-37页 |
| ·激光能量对LSCO 薄膜表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·沉积温度对LSCO 薄膜电阻率的影响 | 第38页 |
| ·工艺参数对Pt/Ti/SiO_2/Si 基片上沉积LSCO 薄膜的影响 | 第38-43页 |
| ·沉积温度对LSCO 薄膜表面形貌的影响 | 第38-40页 |
| ·氧气压对LSCO 薄膜表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·激光能量对LSCO 薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·LSCO 薄膜的结晶情况研究 | 第42-43页 |
| ·结合（001）LAO 和（001）MgO 基片的比较 | 第43-49页 |
| ·（001）LAO 基片上生长LSCO 薄膜 | 第43-46页 |
| ·（001）MgO 基片上生长LSCO 薄膜 | 第46-47页 |
| ·不同基片上生长LSCO 薄膜的比较 | 第47-49页 |
| 第五章 BST/LSCO 异质结构的生长 | 第49-54页 |
| ·STO 基片上BST/LSCO 异质结构的生长 | 第49-51页 |
| ·Pt/Ti/SiO_2/Si 基片上BST/LSCO 异质结构的生长 | 第51-54页 |
| 第六章 结论 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第60页 |
