摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-25页 |
·引言 | 第10-15页 |
·镁合金的分类 | 第10-11页 |
·镁合金中的合金元素及其作用 | 第11-12页 |
·镁合金的强化方法 | 第12-14页 |
·镁合金的发展前景 | 第14-15页 |
·镁复合材料研究及应用现状 | 第15-23页 |
·镁基复合材料的制备方法 | 第15-18页 |
·镁基复合材料研究现状 | 第18-22页 |
·镁基复合材料发展趋势 | 第22-23页 |
·课题的研究意义、研究内容及技术路线 | 第23-25页 |
·研究意义 | 第23页 |
·主要研究内容 | 第23-24页 |
·技术路线 | 第24-25页 |
第2章 实验 | 第25-31页 |
·实验设备 | 第25页 |
·MG_2B_2O_(5W)/ZK60 复合材料的制备 | 第25-28页 |
·基体合金及硼酸镁晶须增强体 | 第25-26页 |
·配料、混粉 | 第26页 |
·冷等静压成形 | 第26-27页 |
·烧结 | 第27-28页 |
·固溶及时效处理 | 第28-29页 |
·组织结构与性能测试 | 第29-31页 |
·密度 | 第29页 |
·硬度 | 第29页 |
·差热分析 | 第29页 |
·显微组织观察 | 第29-30页 |
·物相分析 | 第30页 |
·透射电镜分析 | 第30-31页 |
第3章 实验结果及分析 | 第31-46页 |
·MG_2B_2O_(5W)/ZK60 复合材料的烧结密度 | 第31-32页 |
·MG_2B_2O_(5W)/ZK60 复合材料的硬度、显微组织及界面分析 | 第32-37页 |
·复合材料的硬度 | 第32-33页 |
·显微组织 | 第33-35页 |
·界面分析 | 第35-37页 |
·MG_2B_2O_(5W)/ZK60 复合材料的固溶工艺 | 第37-39页 |
·固溶温度与时间 | 第37-38页 |
·固溶处理对复合材料显微组织和硬度的影响 | 第38-39页 |
·MG_2B_2O_(5W)/ZK60 复合材料的时效行为 | 第39-43页 |
·时效处理对复合材料显微组织的影响 | 第39-42页 |
·时效处理对复合材料硬度的影响 | 第42-43页 |
·MG_2B_2O_(5W)/ZK60 复合材料的X 射线衍射分析 | 第43-46页 |
·固溶处理前后复合材料X 射线衍射分析 | 第43页 |
·时效处理后复合材料X 射线衍射分析 | 第43-46页 |
第4章 讨论 | 第46-53页 |
·MG_2B_2O_(5W) 界面反应 | 第46-47页 |
·相图预测平衡组织 | 第47-49页 |
·MG_2B_2O_(5W)/ZK60 复合材料时效行为 | 第49-53页 |
·MG_2B_2O_(5W)/ZK60 复合材料中的MgZ112 相 | 第49-50页 |
·时效析出相 | 第50-51页 |
·时效硬化 | 第51页 |
·时效过程中的再结晶 | 第51-53页 |
结论 | 第53-54页 |
课题工作研究展望 | 第54-55页 |
致谢 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-60页 |
攻读学位期间发表的论文 | 第60页 |