| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-20页 |
| ·微弧氧化技术制备TiO_2膜的研究概述 | 第7-10页 |
| ·微弧氧化机理 | 第10-16页 |
| ·微弧氧化的特点及其应用前景 | 第16-18页 |
| ·微弧氧化技术制备TiO_2膜的研究现状 | 第18-19页 |
| ·论文题目的选择及主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 微弧氧化技术制备TIO_2膜的实验设备及方法 | 第20-26页 |
| ·微弧氧化TiO_2膜的制备工艺流程 | 第20-21页 |
| ·微弧氧化过程 | 第21-22页 |
| ·影响微弧氧化TiO_2膜制备的因素 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化TiO_2膜的具体制备方式 | 第23-25页 |
| ·微弧氧化TiO_2膜的表征方法 | 第25-26页 |
| 第三章 电流和电压对微弧氧化TIO_2膜生长特性的影响 | 第26-39页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·微弧氧化过程中电参数变化规律 | 第26-30页 |
| ·电流密度对TiO_2膜生长特性影响 | 第30-34页 |
| ·电压对TiO_2膜生长特性影响 | 第34-38页 |
| ·本章小节 | 第38-39页 |
| 第四章 脉冲频率和占空比对微弧氧化TIO_2膜生长特性影响 | 第39-47页 |
| ·脉冲频率对TiO_2膜生长特性影响 | 第39-42页 |
| ·占空比对TiO_2膜生长特性影响 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 结论 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
