| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 前言 | 第6-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-22页 |
| ·光催化分解水制氢的研究进展 | 第7-17页 |
| ·光催化分解水原理 | 第7-8页 |
| ·提高光催化分解水效率的途径 | 第8-11页 |
| ·负载贵金属 | 第8页 |
| ·负载氧化镍 | 第8-9页 |
| ·半导体的复合 | 第9-10页 |
| ·掺杂 | 第10-11页 |
| ·添加牺牲剂(电子给体或电子受体) | 第11页 |
| ·可见光照射下可以分解水的光催化剂 | 第11-17页 |
| ·已有紫外光下具有活性的光催化剂可见光化 | 第11-14页 |
| ·窄禁带可见光响应光催化剂 | 第14-17页 |
| ·Cr(VI)的光催化还原研究 | 第17-18页 |
| ·SiC光催化剂 | 第18-21页 |
| ·SiC的性质 | 第18-19页 |
| ·SiC粉体的制备 | 第19-20页 |
| ·SiC在光催化方面的应用 | 第20-21页 |
| ·本文的研究思路 | 第21-22页 |
| 第二章 光催化分解水产氢实验 | 第22-45页 |
| ·实验部分 | 第22-29页 |
| ·试剂与仪器 | 第22-24页 |
| ·SiC的预处理 | 第24页 |
| ·SiC的Pt负载和NiO负载 | 第24页 |
| ·催化剂的表征 | 第24-27页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第25页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第25页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS) | 第25-26页 |
| ·热重分析(TGA) | 第26页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第26-27页 |
| ·光催化分解水制氢反应 | 第27-29页 |
| ·实验装置 | 第27-28页 |
| ·实验步骤 | 第28页 |
| ·分析方法 | 第28页 |
| ·计算 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-43页 |
| ·催化剂表征结果分析 | 第29-33页 |
| ·XRD结果分析 | 第29页 |
| ·UV-Vis DRS 结果分析 | 第29-31页 |
| ·TGA 结果分析 | 第31-32页 |
| ·XPS 结果分析 | 第32-33页 |
| ·空白实验 | 第33页 |
| ·预处理对光催化产氢的影响 | 第33-35页 |
| ·光催化剂用量对光催化产氢的影响 | 第35页 |
| ·光照时间对光催化产氢的影响 | 第35-36页 |
| ·实际太阳光和室内荧光灯照射下的产氢性能 | 第36-37页 |
| ·溶液初始pH值对光催化产氢的影响 | 第37-39页 |
| ·不同牺牲剂种类对光催化产氢的影响 | 第39-40页 |
| ·碳化硅光催化分解水的机理探讨 | 第40-41页 |
| ·pt负载对光催化产氢性能的影响 | 第41-42页 |
| ·NiO负载(0500)对光催化产氢性能的影响 | 第42-43页 |
| ·NiO负载(R500-0200)对光催化产氢性能的影响 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第三章 Cr(VI)的光催化还原实验 | 第45-52页 |
| ·实验部分 | 第45-47页 |
| ·试剂和仪器 | 第45页 |
| ·实验方法 | 第45-47页 |
| ·光催化还原Cr(VI)反应 | 第45-46页 |
| ·分析方法 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·光照时间和催化剂用量对Cr(VI)光催化还原的影响 | 第47-49页 |
| ·Cr(VI)初始浓度对Cr(VI)光催化还原的影响 | 第49-50页 |
| ·溶液初始pH值对Cr(VI)光催化还原的影响 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第59-60页 |
| 附录 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
