碳纳米管和碳化硅晶须表面镀硅及镀层性能的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-27页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·碳纳米管简介 | 第11-15页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第11页 |
| ·碳纳米管的特性 | 第11-12页 |
| ·碳纳米管的制备方法 | 第12-13页 |
| ·碳纳米管复合材料的研究 | 第13页 |
| ·碳纳米管增强复合材料界面问题 | 第13-15页 |
| ·碳化硅晶须简介 | 第15-21页 |
| ·碳化硅晶须的特性和应用 | 第15-17页 |
| ·碳化硅晶须的制备方法 | 第17-19页 |
| ·碳化硅晶须的增韧机理 | 第19页 |
| ·碳化硅晶须在复合材料中的应用 | 第19-20页 |
| ·碳化硅晶须增强的铝基复合材料的界面反应 | 第20-21页 |
| ·镀硅工艺简介 | 第21-25页 |
| ·等离子体增强CVD 法 | 第21-22页 |
| ·热丝CVD 法 | 第22-23页 |
| ·原子层沉积 | 第23-24页 |
| ·硅烷及其分解的研究 | 第24-25页 |
| ·本文的主要研究内容和意义 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第2章 实验方法及过程 | 第27-40页 |
| ·镀硅纳米粉体的制备 | 第27-31页 |
| ·镀覆实验原理 | 第28-30页 |
| ·未镀覆原样的特性 | 第30页 |
| ·镀覆实验过程 | 第30-31页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第31-32页 |
| ·X 射线衍射分析原理 | 第31-32页 |
| ·实验所用的设备及过程 | 第32页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第32-33页 |
| ·拉曼光谱基本原理 | 第32页 |
| ·实验所用的设备及过程 | 第32-33页 |
| ·示差扫描量热分析 | 第33-34页 |
| ·示差扫描量热分析原理 | 第33-34页 |
| ·实验设备及过程 | 第34页 |
| ·透射电境分析 | 第34-36页 |
| ·透射电镜分析原理 | 第34-35页 |
| ·实验设备及过程 | 第35-36页 |
| ·复合材料烧结及其性能测试 | 第36-38页 |
| ·热压烧结实验 | 第36-37页 |
| ·抗折强度实验 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第3章 硅镀层的结构和形貌 | 第40-60页 |
| ·镀覆工艺对硅镀层结构的影响 | 第40-49页 |
| ·镀覆温度对镀层结构的影响 | 第40-47页 |
| ·循环次数对镀层结构的影响 | 第47-49页 |
| ·镀硅纳米粉体的拉曼光谱分析 | 第49-52页 |
| ·硅镀层的形貌分析 | 第52-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 硅镀层的性能和作用 | 第60-69页 |
| ·镀覆样品的热稳定性分析 | 第60-65页 |
| ·镀硅碳纳米管 | 第60-63页 |
| ·镀硅碳化硅晶须 | 第63-65页 |
| ·硅镀层的作用 | 第65-66页 |
| ·抗折实验结果与分析 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 作者简介 | 第77页 |
