光纤光栅的理论和制作工艺的研究
| 第1章 绪论 | 第1-18页 |
| 1．1 光纤光栅的发展 | 第9页 |
| 1．2 光纤光栅的分类 | 第9-13页 |
| 1．3 光纤光栅的应用 | 第13-17页 |
| 1．4 论文选题意义及主要工作 | 第17-18页 |
| 第2章 光纤光栅的理论及特性 | 第18-47页 |
| 2．1 耦合模理论 | 第18-22页 |
| 2．2 光纤光栅理论模型 | 第22-27页 |
| 2．3 传输矩阵法与龙格-库塔法 | 第27-33页 |
| 2．3．1 传输矩阵法 | 第27-29页 |
| 2．3．2 龙格-库塔法 | 第29-30页 |
| 2．3．3 两种方法比较 | 第30-33页 |
| 2．4 光纤光栅特性 | 第33-46页 |
| 2．4．1 布拉格光纤光栅特性 | 第33-36页 |
| 2．4．2 啁啾光纤光栅特性 | 第36-39页 |
| 2．4．3 切趾光纤光栅特性 | 第39-46页 |
| 2．5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第3章 荧光光纤光栅的理论及特性 | 第47-56页 |
| 3．1 荧光光纤光栅的理论模型 | 第47-51页 |
| 3．1．1 耦合模理论 | 第47-49页 |
| 3．1．2 多层膜理论 | 第49-51页 |
| 3．2 应用两种模型分析荧光光纤光栅的特性 | 第51-55页 |
| 3．2．1 应用耦合模理论分析结果 | 第51-53页 |
| 3．2．2 应用多层膜理论分析结果 | 第53-55页 |
| 3．2．3 对分析结果比较 | 第55页 |
| 3．3 本章小结 | 第55-56页 |
| 第4章 光纤光栅的制作 | 第56-80页 |
| 4．1 光纤的光敏性 | 第56-57页 |
| 4．2 光刻光纤光栅的紫外光源 | 第57-58页 |
| 4．3 光纤光栅的制作方法 | 第58-62页 |
| 4．4 相位掩模法制作光纤光栅的分析 | 第62-72页 |
| 4．4．1 近场理论分析 | 第62-72页 |
| 4．5 实验制作系统与结果 | 第72-78页 |
| 4．5．1 实验制作系统 | 第72-73页 |
| 4．5．2 实验结果 | 第73-78页 |
| 4．6 本章小结 | 第78-80页 |
| 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
