| 目录 | 第1-5页 |
| 第一章 引言 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第二章 文献综述 | 第9-33页 |
| 2． 1 磁光效应 | 第9-10页 |
| 2． 1． 1 磁光效应定义 | 第9-10页 |
| 2． 1． 2 磁光效应的测试 | 第10页 |
| 2． 2 磁光材料的分类 | 第10-12页 |
| 2． 2． 1磁光玻璃 | 第11页 |
| 2． 2． 2尖晶石型硫属化合物 | 第11页 |
| 2． 2． 3MnBi合金薄膜 | 第11页 |
| 2． 2． 4 稀土过渡族金属非晶薄膜 | 第11-12页 |
| 2． 2． 5 稀土铁石榴石磁光材料 | 第12页 |
| 2． 3 稀土铁石榴石磁光材料及发展 | 第12-22页 |
| 2． 3． 1 石榴石型铁氧体的晶体结构 | 第12-14页 |
| 2． 3． 2 稀土铁石榴石材料的磁学性质 | 第14-15页 |
| 2． 3． 3 稀土铁石榴石材料的磁光性质 | 第15-17页 |
| 2． 2． 4 稀土铁石榴石材料的发展力程 | 第17-18页 |
| 2． 3． 4． 1 未掺杂YIG石榴石材料 | 第17页 |
| 2． 3． 4． 2 Bi掺杂系列石榴石材料 | 第17-18页 |
| 2． 3． 4． 3 Ce掺杂石榴石材料 | 第18页 |
| 2． 3． 5 稀土铁石榴石材料的制备方法 | 第18-22页 |
| 2． 4 稀土铁石榴石磁光材料的应用--磁光器件 | 第22-27页 |
| 2． 4． 1 磁光调制器 | 第22页 |
| 2． 4． 2 磁光传感器 | 第22-24页 |
| 2． 4． 3 磁光隔离器 | 第24-26页 |
| 2． 4． 4 磁光记录 | 第26-27页 |
| 2． 5 磁光理论 | 第27-31页 |
| 2． 5． 1 磁光效应的唯象解释 | 第27-28页 |
| 2． 5． 2 磁光效应的经典理论 | 第28-29页 |
| 2． 5． 3 磁光效应的分子场理论 | 第29-30页 |
| 2． 5． 4 磁光效应的量子力学解释 | 第30-31页 |
| 2． 6 问题的提出与本课题的目的 | 第31-33页 |
| 第三章 共沉淀法制备BI-YIG纳米颗粒 | 第33-45页 |
| 3． 1 BI-YIG纳米颗粒的制备过程 | 第33-34页 |
| 3． 2 PH值对BI-YIG纳米颗粒尺寸的影响 | 第34-39页 |
| 3． 3 研磨时间对BI-YIG纳米颗粒尺寸的影响 | 第39-41页 |
| 3． 4 热处理温度与时间对BI-YIG纳米颗粒的影响 | 第41-45页 |
| 第四章 共沉淀法加旋转镀膜法制备磁光复合薄膜 | 第45-53页 |
| 4． 1 引言 | 第45页 |
| 4． 2 磁光复合薄膜的制备方法 | 第45-47页 |
| 4． 3 FARADAY旋转角与热处理条件的关系 | 第47-48页 |
| 4． 4 光散射系数与热处理条件的关系 | 第48-49页 |
| 4． 5 磁光优质和热处理条件的关系 | 第49-50页 |
| 4． 6 FARADAY旋转角的测试方法 | 第50-53页 |
| 4． 6． 1 法拉第效应测试方法综述 | 第50-51页 |
| 4． 6． 2 CGX-1型磁光测试仪 | 第51-53页 |
| 第五章 共沉淀法加高温热解法制备BI-YIG薄膜 | 第53-59页 |
| 5． 1 引言 | 第53-54页 |
| 5． 2 实验 | 第54-56页 |
| 5． 3 不同热处理温度下制备的BI-YIG薄膜的XRD分析 | 第56页 |
| 5． 4 热处理条件对BI-YIG薄膜的FARADAY旋转角的影响 | 第56-57页 |
| 5． 5 热处理条件对BI-YIG薄膜光吸收系数的影响 | 第57-58页 |
| 5． 6 热处理条件对BI-YIG薄膜磁光优质的影响 | 第58-59页 |
| 第六章 共沉淀法制备用于磁控溅射的BI-YIG陶瓷靶材 | 第59-63页 |
| 6． 1 引言 | 第59页 |
| 6． 2 共沉淀法制备BI-YIG靶材 | 第59-60页 |
| 6． 3 磁控溅射制备BI_(1． 8) Y_(1． 2) FE_5O_(12) 薄膜 | 第60-63页 |
| 参考文献 | 第63-72页 |
| 研究生阶段所发表论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
