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CVD法Sb掺杂SnO2薄膜的制备、性能及应用研究

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 引言第11-12页
第二章 文献综述第12-38页
 2.1 前言第12-14页
 2.2 理论基础第14-19页
  2.2.1 低辐射镀膜玻璃节能原理第14-15页
  2.2.2 低辐射镀膜玻璃节能性能表征第15-17页
  2.2.3 低辐射镀膜玻璃功能特点第17-19页
 2.3 研究背景第19-25页
  2.3.1 低辐射镀膜玻璃分类第19-23页
  2.3.2 国内外应用概况第23-25页
 2.4 低辐射镀膜玻璃制备技术第25-32页
  2.4.1 真空蒸镀法第25-26页
  2.4.2 溅射镀膜法第26-27页
  2.4.3 溶胶-凝胶法第27页
  2.4.4 电浮法镀膜第27-28页
  2.4.5 喷涂镀膜法第28-29页
  2.4.6 化学气相沉积法第29-31页
  2.4.7 在线 CVD法镀膜技术第31-32页
 2.5 选题角度的确定第32-34页
 参考文献第34-38页
第三章 实验与测试第38-46页
 3.1 试样制备第38-41页
  3.1.1 实验装置第38-39页
  3.1.2 反应原料体系的选用第39-40页
  3.1.3 薄膜样品制备过程第40-41页
 3.2 薄膜分析与测试方法第41-44页
  3.2.1 薄膜结构、成分和形貌分析第41-43页
  3.2.2 薄膜电学性能测试第43-44页
  3.2.3 薄膜光学性能测试第44页
  3.2.4 薄膜厚度测定第44页
 3.3 实验技术路线第44-46页
第四章 SnO_2:Sb薄膜的形成、结构和性能分析第46-79页
 4.1 Sb掺杂 SnO_2薄膜第46-54页
  4.1.1 SnO_2:Sb薄膜结构和形貌分析第46-48页
  4.1.2 SnO_2:Sb薄膜成分分析第48-50页
  4.1.3 SnO_2:Sb薄膜光谱特性分析第50-52页
  4.1.4 SnO_2:Sb薄膜禁带宽度的计算第52-54页
  4.1.5 SnO_2:Sb薄膜膜面颜色第54页
 4.2 制备参数对 SnO_2:Sb薄膜结构和光电性能的影响第54-75页
  4.2.1 基板温度对薄膜结构和光电性能的影响第54-59页
  4.2.2 沉积时间对薄膜结构和光电性能的影响第59-64页
  4.2.3 Sb掺杂量对薄膜结构和光电性能的影响第64-69页
  4.2.4 催化剂 H_2O用量对薄膜结构和光电性能的影响第69-75页
 4.3 SnO_2:Sb薄膜形成过程与机理第75-76页
 4.4 本章小节第76-78页
 参考文献第78-79页
第五章 掺杂二氧化锡薄膜在节能玻璃中的应用第79-88页
 5.1 引言第79-80页
 5.2 样品制备与测试第80-81页
 5.3 结果分析与讨论第81-85页
  5.3.1 XRD结果分析第82页
  5.3.2 节能镀膜玻璃表面形貌分析第82-83页
  5.3.3 节能镀膜玻璃光学性能分析第83-85页
 5.4 复合节能镀膜玻璃的化学稳定性测试第85-86页
 5.5 本章小节第86-88页
第六章 结论第88-90页
研究生期间发表的学术论文第90-91页
致谢第91页

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