| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 一 文献综述 | 第9-40页 |
| ·概述 | 第9页 |
| ·二维纳米结构--纳米薄膜材料 | 第9-16页 |
| ·纳米技术在防腐方面的的相关应用 | 第9-11页 |
| ·纳米薄膜材料的结构与分类方法 | 第11-13页 |
| ·纳米薄膜的性能 | 第13-16页 |
| ·纳米薄膜材料制备技术 | 第16-20页 |
| ·纳米薄膜材料制备技术分类 | 第17页 |
| ·纳米薄膜材料常用制备技术简介 | 第17-20页 |
| ·自组装技术 | 第20-33页 |
| ·自组装的原理和特点 | 第21-23页 |
| ·纳米材料自组装的合成方法和基本特征 | 第23-26页 |
| ·分子自组装体系形成的影响因素 | 第26-27页 |
| ·分子自组装的应用 | 第27-31页 |
| ·自组装与纳米技术 | 第31-33页 |
| ·纳米薄膜材料测试技术 | 第33-38页 |
| ·纳米材料测试主要仪器简介 | 第33-36页 |
| ·纳米薄膜材料的表征方法 | 第36-37页 |
| ·其他表征方法 | 第37-38页 |
| ·存在的问题和发展方向 | 第38-39页 |
| ·本工作的目的和主要任务 | 第39-40页 |
| 二 实验部分 | 第40-43页 |
| ·实验药品 | 第40页 |
| ·仪器及设备 | 第40页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第40页 |
| ·薄膜成分及结构表征 | 第40-41页 |
| ·薄膜保护性能的表征 | 第41-43页 |
| ·腐蚀失重法 | 第41页 |
| ·电化学测试方法 | 第41-43页 |
| 三 结果与讨论 | 第43-73页 |
| ·成膜条件对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第43-62页 |
| ·浸渍温度对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第43-44页 |
| ·浸渍时间对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第44-46页 |
| ·稀释剂种类对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第46-48页 |
| ·混合溶液浓度对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第48-50页 |
| ·混合溶液浓度对自组装单分子SiO2薄膜表面形貌的影响 | 第50-53页 |
| ·提拉速度对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第53页 |
| ·风干时间对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第53-54页 |
| ·热处理初始阶段对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第54-55页 |
| ·热处理过程终了过程对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第55-56页 |
| ·热处理过程升温速率对自组装单分子SiO2薄膜的影响 | 第56-57页 |
| ·热处理最高温度对薄膜保护性能的影响 | 第57-58页 |
| ·热处理保温时间对SiO2薄膜保护效果的影响 | 第58-59页 |
| ·热处理过程最高温度对SiO2薄膜成分的影响 | 第59-62页 |
| ·自组装单分子SiO2薄膜的表征 | 第62-70页 |
| ·自组装单分子SiO2薄膜的成分分析 | 第62页 |
| ·自组装单分子SiO2薄膜的X光电子能谱(XPS)分析 | 第62-65页 |
| ·自组装单分子SiO2薄膜的角分辨XPS分析 | 第65-66页 |
| ·自组装单分子SiO2薄膜的SEM分析 | 第66页 |
| ·自组装单分子SiO2薄膜的厚度表征 | 第66-67页 |
| ·自组装单分子SiO2薄膜的颗粒度表征 | 第67-68页 |
| ·自组装单分子SiO2薄膜耐蚀性能的电化学测试 | 第68-70页 |
| ·自组装单分子SiO2薄膜腐蚀耐久性试验 | 第70页 |
| ·成膜机理及成膜过程探讨 | 第70-72页 |
| ·纳米SiO2膜的结构控制 | 第72-73页 |
| ·纳米SiO2膜的致密性的控制 | 第72页 |
| ·纳米SiO2膜的粒径控制 | 第72-73页 |
| 四 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-83页 |
| 致 谢 | 第83-84页 |
| 攻读硕士论文期间论文发表情况 | 第84页 |
