第一章 引言 | 第1-30页 |
1 半导体光催化概述 | 第7-21页 |
1 半导体光催化的研究背景 | 第7-10页 |
2 半导体光催化基本原理 | 第10-13页 |
3 提高光催化性能的主要途径 | 第13-21页 |
·催化剂结构和组成改性 | 第13-17页 |
·尺寸调变-量子尺寸效应 | 第13-14页 |
·过渡金属离子掺杂 | 第14页 |
·半导体复合 | 第14-15页 |
·表面负载 | 第15-16页 |
·表面光敏 | 第16页 |
·酸性调变 | 第16-17页 |
·贵金属沉积 | 第17页 |
·外场耦合 | 第17-21页 |
·热场 | 第17-18页 |
·电场 | 第18-19页 |
·微波场 | 第19页 |
·超声波场 | 第19-21页 |
2 磁场化学概述 | 第21-30页 |
1 磁场化学的研究背景 | 第21-22页 |
2 磁场化学基本原理-自由基对理论 | 第22-30页 |
·单线态、三线态及系间跃迁 | 第22-23页 |
·笼内反应与笼外反应 | 第23-24页 |
·系间跃迁的机理(Δg、hfc、Zeeman等机理) | 第24-30页 |
·无外加磁场作用时的系间跃迁 | 第24-25页 |
·外加磁场作用下的系间跃迁 | 第25-26页 |
·系间跃迁与笼反应的关系 | 第26页 |
·笼效应对磁场作用的影响 | 第26-30页 |
第二章 实验方法 | 第30-35页 |
1 样品的制备 | 第30-31页 |
1 TiO_2与Pt/TiO_2光催化剂的制备 | 第30-31页 |
2 Pt/TiO_2膜的制备 | 第31页 |
2 光催化剂的物理表征 | 第31-32页 |
1 溶胶的粒度表征 | 第31页 |
2 晶相结构表征 | 第31-32页 |
3 比表面积测定 | 第32页 |
3 光催化反应活性评价 | 第32-33页 |
4 瞬态光电导谱 | 第33页 |
5 荧光光谱 | 第33-34页 |
6 原位傅立叶变换红外光谱(IN-SITU FTIR) | 第34-35页 |
第三章 光催化剂的表征结果 | 第35-37页 |
1 TIO_2和PT/TIO_2的表征结果 | 第35页 |
2 PT溶胶的表征结果 | 第35-37页 |
第四章 苯的光催化降解反应活性研究 | 第37-41页 |
1 反应外扩散与内扩散的排除 | 第37-39页 |
2 苯在TIO_2、PT/TIO_2上的光催化性能比较 | 第39-40页 |
3 小结 | 第40-41页 |
第五章 新现象的提出-PT/TIO_2光催化剂上 | 第41-46页 |
1 磁场对光催化降解反应的影响 | 第41-43页 |
2 磁场强度对光催化降解反应的影响 | 第43-45页 |
3 小结 | 第45-46页 |
第六章 磁场对载流子寿命的影响 | 第46-56页 |
1 理论基础 | 第46-49页 |
2 PT/TIO_2的光电导谱 | 第49-53页 |
3 PT/TIO_2中载流子寿命 | 第53-54页 |
4 光电导信号与光催化活性 | 第54页 |
5 磁场强度对PT/TIO_2的光电导谱的影响 | 第54-55页 |
6 小结 | 第55-56页 |
第七章 磁场对光催化反应中羟基自由基生成的影响 | 第56-61页 |
1 光照时间对诱导荧光强度的影响 | 第57-59页 |
2 磁场对诱导荧光强度的影响 | 第59页 |
3 小结 | 第59-61页 |
第八章 磁场效应的原位红外光谱研究 | 第61-67页 |
1 PT/TIO_2催化剂表面苯吸附的FTIR谱图 | 第61-62页 |
2 磁场对PT/TI_2催化剂表面原位苯降解反应的影响 | 第62-64页 |
3 磁场反应中间体的影响 | 第64-66页 |
4 小结 | 第66-67页 |
结论 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-74页 |