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C60薄膜的制备与特性研究

摘要第1-3页
ABSTRACT第3-6页
第一章 绪论第6-25页
   ·C60材料的发现及其结构第6-14页
   ·本征吸收与吸收边理论第14-21页
   ·C60材料的研究进展第21-25页
第二章 蒸发法制备薄膜的工艺第25-39页
   ·物质的热蒸发第25-28页
   ·影响薄膜沉积的工艺参数第28-36页
   ·真空物理基础第36-39页
第三章 真空蒸发法C60薄膜的制备与测试方法第39-62页
   ·实验设备介绍第39-45页
   ·薄膜制备设备操作维护第45-47页
   ·基片的选择与预处理第47页
   ·蒸镀过程第47-48页
   ·镀膜的污染性、重复性问题第48页
   ·薄膜结构表征与性能测试方法第48-62页
第四章 不同工艺条件下制备C60薄膜的研究第62-78页
   ·真空条件下生长的C60薄膜第62-63页
   ·氩气氛下生长的C60薄膜第63-66页
   ·氮气氛下生长的C60薄膜第66-70页
   ·不同气氛下制备的C60薄膜的比较研究第70-74页
   ·薄膜的折射率第74-75页
   ·Sn掺杂C60薄膜第75-77页
   ·本章结论第77-78页
全文总结,展望与设想第78-80页
本文的特色与创新之处第80-81页
参考文献第81-86页
攻读硕士学位期间发表的论文第86-87页
攻读硕士学位期间参加的课题第87-88页
独创性声明第88-89页
致谢第89页

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