C60薄膜的制备与特性研究
摘要 | 第1-3页 |
ABSTRACT | 第3-6页 |
第一章 绪论 | 第6-25页 |
·C60材料的发现及其结构 | 第6-14页 |
·本征吸收与吸收边理论 | 第14-21页 |
·C60材料的研究进展 | 第21-25页 |
第二章 蒸发法制备薄膜的工艺 | 第25-39页 |
·物质的热蒸发 | 第25-28页 |
·影响薄膜沉积的工艺参数 | 第28-36页 |
·真空物理基础 | 第36-39页 |
第三章 真空蒸发法C60薄膜的制备与测试方法 | 第39-62页 |
·实验设备介绍 | 第39-45页 |
·薄膜制备设备操作维护 | 第45-47页 |
·基片的选择与预处理 | 第47页 |
·蒸镀过程 | 第47-48页 |
·镀膜的污染性、重复性问题 | 第48页 |
·薄膜结构表征与性能测试方法 | 第48-62页 |
第四章 不同工艺条件下制备C60薄膜的研究 | 第62-78页 |
·真空条件下生长的C60薄膜 | 第62-63页 |
·氩气氛下生长的C60薄膜 | 第63-66页 |
·氮气氛下生长的C60薄膜 | 第66-70页 |
·不同气氛下制备的C60薄膜的比较研究 | 第70-74页 |
·薄膜的折射率 | 第74-75页 |
·Sn掺杂C60薄膜 | 第75-77页 |
·本章结论 | 第77-78页 |
全文总结,展望与设想 | 第78-80页 |
本文的特色与创新之处 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-86页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第86-87页 |
攻读硕士学位期间参加的课题 | 第87-88页 |
独创性声明 | 第88-89页 |
致谢 | 第89页 |