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铝合金微弧氧化陶瓷层的制备与性能研究

第一章 微弧氧化技术第1-29页
   ·引言第11页
   ·发展简史第11-13页
   ·技术机理第13-16页
   ·微弧氧化陶瓷层的制备及结构第16-22页
     ·微弧氧化的生成条件第16-17页
     ·影响制备的因素第17-18页
     ·膜层的制备方法第18-21页
       ·酸性电解液氧化法第18页
       ·碱性电解液氧化法第18-20页
       ·直流氧化法第20页
       ·交流氧化法第20页
       ·脉冲氧化法第20-21页
       ·恒流或恒压氧化法第21页
     ·膜层的组织结构第21-22页
   ·与阳极氧化技术的比较第22-25页
     ·铝及铝合金的阳极氧化第22-23页
     ·铝及其合金阳极氧化膜的形成及膜的结构第23-24页
     ·微弧氧化与阳极氧化的区别与联系第24-25页
   ·应用第25-27页
     ·微弧氧化技术的优越性第25页
     ·应用领域第25-27页
   ·本课题研究的思路第27-28页
   ·小结第28-29页
第二章 铝合金微弧氧化表面陶瓷层的制备与性能特征第29-42页
   ·引言第29页
   ·正交试验设计第29-31页
     ·正交试验设计第29-30页
     ·正交表安排试验步骤第30-31页
   ·多功能微弧氧化实验装置第31-33页
     ·制备的装置及流程第31页
     ·KLMPA-30A多功能微弧氧化电源第31-33页
   ·测试仪器第33-36页
     ·涡流涂层测厚仪第33页
     ·лMT-3型(HV)显微硬度计第33-34页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第34页
     ·X射线衍射(XRD)第34-35页
     ·孔隙率第35页
     ·耐腐蚀性第35-36页
   ·工艺参数的确定第36-37页
   ·正交试验设计的试验计划第37-38页
   ·结果及讨论第38-41页
     ·氧化过程的特点第38页
     ·厚度、硬度的测试第38-39页
     ·工艺条件的优化第39页
     ·陶瓷层的表征第39-41页
   ·结论第41-42页
第三章 添加剂NA_2WO_4对铝合金微弧氧化陶瓷层的影响第42-50页
   ·引言第42页
   ·实验条件第42页
   ·实验现象第42-44页
   ·厚度与硬度第44页
   ·XRD与SEM分析第44-47页
     ·XRD定量相分析第44页
     ·SEM分析第44-47页
   ·耐磨性能测试第47-49页
     ·磨损机的设计第47-48页
     ·实验条件第48页
     ·磨损实验步骤第48页
     ·陶瓷层耐磨性能第48-49页
   ·结论第49-50页
第四章 电参数对铝合金微弧氧化的影响第50-62页
   ·引言第50页
   ·微弧氧化电源电参数介绍第50-52页
   ·波形的影响第52-56页
     ·实验条件:第52-53页
     ·波形对微弧氧化陶瓷层厚度、硬度的影响第53-55页
     ·波形对陶瓷层相成分和表面形貌的影响第55-56页
   ·电流密度的影响第56-61页
     ·电流密度对LD30(6061)铝合金微弧氧化的影响第56-58页
       ·实验条件第56页
       ·实验结果第56-58页
     ·电流密度对LY12铝合金微弧氧化的影响第58-61页
       ·实验条件第58页
       ·实验结果第58-60页
       ·陶瓷层的耐磨性第60-61页
   ·小结第61-62页
第五章 铝合金在不同溶液体系中微弧氧化膜层性能的研究及与硬质氧化膜的比较第62-69页
   ·引言第62页
   ·实验条件第62-63页
   ·厚度与硬度第63页
   ·表面与截面形貌第63-66页
   ·XRD分析第66-67页
   ·耐磨性能第67-68页
   ·孔隙率第68页
   ·陶瓷层的耐腐蚀性第68页
   ·结论第68-69页
第六章 结论第69-70页
参考文献第70-77页
攻读硕士期间的成果第77-78页
致谢第78页

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