第一章 微弧氧化技术 | 第1-29页 |
·引言 | 第11页 |
·发展简史 | 第11-13页 |
·技术机理 | 第13-16页 |
·微弧氧化陶瓷层的制备及结构 | 第16-22页 |
·微弧氧化的生成条件 | 第16-17页 |
·影响制备的因素 | 第17-18页 |
·膜层的制备方法 | 第18-21页 |
·酸性电解液氧化法 | 第18页 |
·碱性电解液氧化法 | 第18-20页 |
·直流氧化法 | 第20页 |
·交流氧化法 | 第20页 |
·脉冲氧化法 | 第20-21页 |
·恒流或恒压氧化法 | 第21页 |
·膜层的组织结构 | 第21-22页 |
·与阳极氧化技术的比较 | 第22-25页 |
·铝及铝合金的阳极氧化 | 第22-23页 |
·铝及其合金阳极氧化膜的形成及膜的结构 | 第23-24页 |
·微弧氧化与阳极氧化的区别与联系 | 第24-25页 |
·应用 | 第25-27页 |
·微弧氧化技术的优越性 | 第25页 |
·应用领域 | 第25-27页 |
·本课题研究的思路 | 第27-28页 |
·小结 | 第28-29页 |
第二章 铝合金微弧氧化表面陶瓷层的制备与性能特征 | 第29-42页 |
·引言 | 第29页 |
·正交试验设计 | 第29-31页 |
·正交试验设计 | 第29-30页 |
·正交表安排试验步骤 | 第30-31页 |
·多功能微弧氧化实验装置 | 第31-33页 |
·制备的装置及流程 | 第31页 |
·KLMPA-30A多功能微弧氧化电源 | 第31-33页 |
·测试仪器 | 第33-36页 |
·涡流涂层测厚仪 | 第33页 |
·лMT-3型(HV)显微硬度计 | 第33-34页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第34页 |
·X射线衍射(XRD) | 第34-35页 |
·孔隙率 | 第35页 |
·耐腐蚀性 | 第35-36页 |
·工艺参数的确定 | 第36-37页 |
·正交试验设计的试验计划 | 第37-38页 |
·结果及讨论 | 第38-41页 |
·氧化过程的特点 | 第38页 |
·厚度、硬度的测试 | 第38-39页 |
·工艺条件的优化 | 第39页 |
·陶瓷层的表征 | 第39-41页 |
·结论 | 第41-42页 |
第三章 添加剂NA_2WO_4对铝合金微弧氧化陶瓷层的影响 | 第42-50页 |
·引言 | 第42页 |
·实验条件 | 第42页 |
·实验现象 | 第42-44页 |
·厚度与硬度 | 第44页 |
·XRD与SEM分析 | 第44-47页 |
·XRD定量相分析 | 第44页 |
·SEM分析 | 第44-47页 |
·耐磨性能测试 | 第47-49页 |
·磨损机的设计 | 第47-48页 |
·实验条件 | 第48页 |
·磨损实验步骤 | 第48页 |
·陶瓷层耐磨性能 | 第48-49页 |
·结论 | 第49-50页 |
第四章 电参数对铝合金微弧氧化的影响 | 第50-62页 |
·引言 | 第50页 |
·微弧氧化电源电参数介绍 | 第50-52页 |
·波形的影响 | 第52-56页 |
·实验条件: | 第52-53页 |
·波形对微弧氧化陶瓷层厚度、硬度的影响 | 第53-55页 |
·波形对陶瓷层相成分和表面形貌的影响 | 第55-56页 |
·电流密度的影响 | 第56-61页 |
·电流密度对LD30(6061)铝合金微弧氧化的影响 | 第56-58页 |
·实验条件 | 第56页 |
·实验结果 | 第56-58页 |
·电流密度对LY12铝合金微弧氧化的影响 | 第58-61页 |
·实验条件 | 第58页 |
·实验结果 | 第58-60页 |
·陶瓷层的耐磨性 | 第60-61页 |
·小结 | 第61-62页 |
第五章 铝合金在不同溶液体系中微弧氧化膜层性能的研究及与硬质氧化膜的比较 | 第62-69页 |
·引言 | 第62页 |
·实验条件 | 第62-63页 |
·厚度与硬度 | 第63页 |
·表面与截面形貌 | 第63-66页 |
·XRD分析 | 第66-67页 |
·耐磨性能 | 第67-68页 |
·孔隙率 | 第68页 |
·陶瓷层的耐腐蚀性 | 第68页 |
·结论 | 第68-69页 |
第六章 结论 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-77页 |
攻读硕士期间的成果 | 第77-78页 |
致谢 | 第78页 |