离子辅助沉积对薄膜特性的影响

摘要	第1-4页
ABSTRACT	第4-5页
第一章 绪论	第5-17页
·光学薄膜应用概述	第5-7页
·光学薄膜的常用制备方法	第7-9页
·薄膜的微结构特性	第9-11页
·离子辅助沉积技术(IAD)	第11-14页
·离子辅助沉积技术概述	第11-12页
·常用离子源介绍	第12-14页
·Kaufman和Hall源性能比较	第14页
·本课题的研究工作	第14-16页
参考文献	第16-17页
第二章 离子辅助沉积对单层膜特性的影响	第17-37页
·薄膜材料属性	第17-18页
·TiO_2	第17-18页
·Ta_2O_5	第18页
·Nb_2O_5	第18页
·薄膜制备	第18-22页
·特性检测原理和方法	第22-29页
·光学特性	第22-27页
·力学特性	第27-29页
·实验结果和数据分析	第29-36页
·常规工艺下和离子辅助条件下制备的薄膜特性	第29-34页
·不同离子辅助条件下制备的薄膜特性	第34-36页
参考文献	第36-37页
第三章 离子辅助沉积对多层膜特性的影响	第37-60页
·相关理论阐述	第37-42页
·全介质F-P干涉滤光片的制备	第42-46页
·实验结果及数据分析	第46-58页
·ZnS-MgF_2窄带滤光片	第46-52页
·Nb_2O_5-SiO_2窄带滤光片	第52-54页
·TiO_2-SiO_2窄带滤光片	第54-58页
参考文献	第58-60页
第四章 总结与展望	第60-62页
硕士期间发表的论文	第62-63页
致谢	第63页