| 中文摘要 | 第1-11页 |
| ABSTRACT | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-35页 |
| ·结构陶瓷的发展现状 | 第13-14页 |
| ·氧化锆陶瓷材料的研究现状 | 第14-17页 |
| ·氧化锆陶瓷的相变 | 第14-15页 |
| ·氧化锆增韧陶瓷的典型组织 | 第15页 |
| ·氧化锆相变增韧机理 | 第15-17页 |
| ·纳米氧化锆陶瓷研究进展 | 第17-27页 |
| ·纳米氧化锆粉体制备的常用方法 | 第19-23页 |
| ·氧化锆陶瓷材料的研究现状 | 第23-26页 |
| ·氧化锆陶瓷材料研究存在的问题 | 第26-27页 |
| ·本研究的内容和意义 | 第27-29页 |
| ·本研究的构思和意义 | 第27-28页 |
| ·本研究的内容 | 第28页 |
| ·本研究的可能创新点 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-35页 |
| 第二章 实验材料与研究方法 | 第35-44页 |
| ·主要化学试剂及实验设备 | 第35-36页 |
| ·主要化学试剂 | 第35-36页 |
| ·主要实验设备 | 第36页 |
| ·氧化锆陶瓷粉末的制备方法 | 第36-37页 |
| ·氧化锆陶瓷粉末的造粒成型以及陶瓷试样的制备 | 第37-38页 |
| ·氧化锆陶瓷粉末及其陶瓷试样的分析方法 | 第38-44页 |
| ·热重—差热分析 | 第38页 |
| ·X射线衍射分析 | 第38-39页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第39页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第39页 |
| ·傅立叶红外图谱(FTIR) | 第39页 |
| ·紫外-可见漫反射分析(UV-Vis) | 第39页 |
| ·荧光光谱分析 | 第39-40页 |
| ·比表面及孔隙分析 | 第40-41页 |
| ·比重瓶法测粉体密度 | 第41-42页 |
| ·相对密度 | 第42页 |
| ·抗弯强度 | 第42页 |
| ·断裂韧性 | 第42-44页 |
| 第三章 不同稳定剂掺杂稳定氧化锆陶瓷粉末的制备与表征 | 第44-65页 |
| ·不同稳定剂掺杂稳定的氧化锆陶瓷粉末及陶瓷试样的制备 | 第44页 |
| ·实验工艺条件的确定 | 第44-53页 |
| ·柠檬酸(CA)的络合原理及溶液pH值的控制 | 第44-47页 |
| ·单体和网络剂浓度对颗粒度的影响 | 第47-49页 |
| ·单体和网络剂配比对粉体颗粒度的影响 | 第49-50页 |
| ·金属离子浓度的影响 | 第50-51页 |
| ·热处理温度的影响 | 第51-53页 |
| ·实验结果分析 | 第53-61页 |
| ·TG-DTA分析 | 第53-54页 |
| ·XRD分析 | 第54-55页 |
| ·紫外—可见漫反射分析 | 第55-56页 |
| ·单斜相的FTIR检测 | 第56-57页 |
| ·粉体的形貌观察 | 第57-58页 |
| ·粉体密度和比表面积分析 | 第58-60页 |
| ·力学性能分析 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第四章 GD_2O_3和Y_2O_3复合掺杂稳定氧化锆粉末的制备与表征 | 第65-84页 |
| ·氧化锆陶瓷基体材料确定 | 第65页 |
| ·GD_2O_3稳定剂的选择 | 第65页 |
| ·GD_2O_3和Y_2O_3复合掺杂稳定氧化锆粉末及陶瓷试样的制备 | 第65页 |
| ·实验结果分析 | 第65-81页 |
| ·XRD分析 | 第65-70页 |
| ·紫外—可见漫反射分析 | 第70页 |
| ·粉体比表面积分析 | 第70-72页 |
| ·粉体形貌观察 | 第72-73页 |
| ·单斜相的FTIR检测 | 第73-74页 |
| ·粉体的荧光分析 | 第74-77页 |
| ·力学性能分析 | 第77-78页 |
| ·陶瓷试样的晶相分析及微观结构 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-84页 |
| 第五章 结论与展望 | 第84-87页 |
| ·结论 | 第84-85页 |
| ·展望和对未来工作的建议 | 第85-87页 |
| 硕士期间发表的学术论文与研究成果 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
