| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-12页 |
| ·传统电火工品的桥材料 | 第7页 |
| ·桥薄膜材料的制备技术 | 第7-8页 |
| ·溅射的基本原理 | 第8-11页 |
| ·溅射的机理和过程 | 第10页 |
| ·溅射率 | 第10-11页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第11-12页 |
| 2 薄膜的制备 | 第12-19页 |
| ·磁控溅射 | 第12页 |
| ·真空镀膜实验设备 | 第12-14页 |
| ·设备性能 | 第12-13页 |
| ·操作步骤 | 第13-14页 |
| ·实验材料 | 第14-15页 |
| ·Al薄膜的制备 | 第15-17页 |
| ·实验工艺条件的选择 | 第15页 |
| ·样品的制备 | 第15-17页 |
| ·CuO薄膜的制备 | 第17-18页 |
| ·实验工艺条件的选择 | 第17页 |
| ·样品的制备 | 第17-18页 |
| ·Al-CuO复合薄膜的制备 | 第18-19页 |
| 3 薄膜的制备工艺研究 | 第19-31页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第19页 |
| ·方块电阻的测量 | 第19-23页 |
| ·连续金属薄膜的导电性质 | 第20-21页 |
| ·方块电阻的测试原理 | 第21-23页 |
| ·Al薄膜的制备工艺条件研究 | 第23-26页 |
| ·Al薄膜的物理参数及沉积速率 | 第23-24页 |
| ·Al薄膜的制备工艺条件与沉积速率的关系 | 第24-26页 |
| ·Al薄膜的最佳制备工艺条件 | 第26页 |
| ·CuO薄膜的制备工艺条件研究 | 第26-30页 |
| ·CuO薄膜的物理参数及沉积速率 | 第26-27页 |
| ·CuO薄膜的制备工艺条件与沉积速率的关系 | 第27-29页 |
| ·CuO薄膜的最佳制备工艺条件 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 4 薄膜的表征 | 第31-45页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第31-38页 |
| ·Al薄膜表面形貌分析 | 第31-35页 |
| ·CuO薄膜表面形貌分析 | 第35-38页 |
| ·Al-CuO复合薄膜断面观察与分析 | 第38页 |
| ·薄膜的化学组成 | 第38-42页 |
| ·Al薄膜的EDS分析 | 第39-40页 |
| ·CuO薄膜的EDS分析 | 第40-41页 |
| ·Al-CuO复合膜的EDS分析 | 第41-42页 |
| ·薄膜的晶相结构 | 第42-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 5 Al-CuO复合桥膜的电点火实验研究 | 第45-61页 |
| ·复合桥膜的电点火性能测试 | 第45-56页 |
| ·复合桥膜的温度变化研究 | 第46-53页 |
| ·复合桥膜的伏安特性研究 | 第53-55页 |
| ·复合桥膜的物相分析 | 第55-56页 |
| ·复合桥膜的反应机理研究 | 第56-60页 |
| ·等离子体判据 | 第56-57页 |
| ·Al桥膜和Al-CuO复合桥膜产生等离子体的判据 | 第57-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 6 结论 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |