| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-13页 |
| ·研究意义 | 第7-8页 |
| ·铒离子的发光特性 | 第8-9页 |
| ·铒掺杂SiO_2 的研究进展 | 第9-13页 |
| 第二章 实验原理与实验仪器 | 第13-22页 |
| ·离子注入简介 | 第13-16页 |
| ·离子注入装置及原理 | 第13-15页 |
| ·离子注入所引起的主要缺陷 | 第15-16页 |
| ·高温退火设备简介 | 第16-17页 |
| ·样品表征及测试技术 | 第17-22页 |
| ·透射—反射谱 | 第17-18页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第18-20页 |
| ·微区光致发光谱 | 第20-22页 |
| 第三章 样品制备及其微结构和光学特性研究 | 第22-32页 |
| ·利用离子注入及后退火方法制备Er掺杂SiO_2 | 第22页 |
| ·拉曼光谱测试及分析 | 第22-23页 |
| ·X 射线光电子能谱测试及分析 | 第23-24页 |
| ·透射—反射谱分析 | 第24-25页 |
| ·室温下的光致发光光谱分析 | 第25-27页 |
| ·变温光致发光光谱分析 | 第27-32页 |
| 第四章 结论 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-36页 |
| 致谢 | 第36-37页 |
| 在学期间公开发表论文及著作情况 | 第37页 |