氧化铝模板辅助生长一维纳米线阵列及其电学性质研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·纳米材料的分类 | 第9-10页 |
| ·纳米材料基本效应 | 第10-11页 |
| ·小尺寸效应(体积效应) | 第10页 |
| ·表面效应(界面效应) | 第10页 |
| ·量子尺寸效应 | 第10页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第10-11页 |
| ·一维纳米材料 | 第11页 |
| ·模板法组装一维纳米结构材料 | 第11-12页 |
| ·几种常用的模板 | 第12-15页 |
| ·多孔氧化铝膜模板法 | 第12页 |
| ·二氧化硅模板法 | 第12-13页 |
| ·碳纳米管模板法 | 第13页 |
| ·表面活性剂模板法 | 第13页 |
| ·聚合物模板法 | 第13-14页 |
| ·生物模板法 | 第14-15页 |
| ·模板法制备一维纳米材料的几种方法 | 第15-18页 |
| ·电化学沉积法 | 第15-16页 |
| ·化学法 | 第16页 |
| ·溶胶、凝胶法 | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积法 | 第17页 |
| ·微流辅助模板法 | 第17-18页 |
| ·本文研究背景和主要研究内容 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-24页 |
| 第二章 多孔氧化铝模板 | 第24-34页 |
| ·多孔阳极氧化铝膜的结构特征 | 第24-25页 |
| ·阳极氧化铝制备装置 | 第25页 |
| ·多孔氧化铝制备过程 | 第25-27页 |
| ·铝基多孔氧化铝薄膜制备的前期准备 | 第26页 |
| ·阳极氧化铝 | 第26-27页 |
| ·后续处理 | 第27页 |
| ·表征 | 第27-30页 |
| ·多孔氧化铝膜形成过程及机理 | 第30-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 金属TCNQ复合物纳米线阵列 | 第34-51页 |
| ·研究基础 | 第34-38页 |
| ·晶体结构及电荷转移度 | 第34-36页 |
| ·制备方法 | 第36-38页 |
| ·多孔氧化铝模板辅助生长M-TCNQ纳米线阵列 | 第38-41页 |
| ·模板准备 | 第38页 |
| ·金属层沉积 | 第38-39页 |
| ·蒸气输运法反应生长纳米线 | 第39页 |
| ·SEM表征 | 第39-41页 |
| ·XRD表征 | 第41页 |
| ·生长机理研究 | 第41-43页 |
| ·电学测试 | 第43-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 第四章 Cu-TCNQ纳米线阵列场发射性能研究 | 第51-58页 |
| ·场致电子发射 | 第51-53页 |
| ·测试仪器 | 第53-54页 |
| ·测试和表征 | 第54-57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
| 第五章 铜纳米线阵列 | 第58-66页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·氧化铝模板的预处理 | 第58-60页 |
| ·电沉积铜纳米线阵列 | 第60-65页 |
| ·直流电沉积铜纳米线 | 第60-61页 |
| ·交流电沉积铜纳米线 | 第61-65页 |
| 参考文献 | 第65-66页 |
| 第六章 结论与展望 | 第66-68页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| ·前景与展望 | 第67-68页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
