| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·光镊技术发展的背景 | 第7-8页 |
| ·国内外光镊技术的发展及研究现状 | 第8-12页 |
| ·本文研究的目的及意义 | 第12-13页 |
| 第二章 光镊技术的基本原理研究 | 第13-23页 |
| ·光辐射压力 | 第13-18页 |
| ·光学散射力和梯度力的简要分析 | 第18-20页 |
| ·光学势阱 | 第20-23页 |
| 第三章 高斯光束的特性 | 第23-35页 |
| ·激光的特性 | 第23-26页 |
| ·基模高斯光束 | 第26-32页 |
| ·高阶高斯光束 | 第32-35页 |
| 第四章 微粒在高斯光束中所受光阱力的计算和分析 | 第35-51页 |
| ·米氏微粒在高斯光束光场中所受光阱力的计算与分析 | 第35-43页 |
| ·瑞利微粒在高斯光束光场中所受光阱力的计算与分析 | 第43-48页 |
| ·光阱力计算的 T 矩阵方法 | 第48-51页 |
| 第五章 光镊系统装置的组建方案 | 第51-55页 |
| ·光镊系统的基本组成 | 第51-52页 |
| ·光镊系统中各装置的选取 | 第52-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |