| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| ·概述 | 第10-12页 |
| ·TiO_2薄膜晶体结构 | 第12-14页 |
| ·TiO_2薄膜光催化反应机理 | 第14-16页 |
| ·影响TiO_2薄膜光催化活性的因素 | 第16-19页 |
| ·晶型的影响 | 第16-17页 |
| ·晶粒尺寸的影响 | 第17页 |
| ·表面的影响 | 第17页 |
| ·膜的厚度 | 第17-18页 |
| ·表面羟基及氧空缺 | 第18页 |
| ·光强 | 第18页 |
| ·掺杂其它物质 | 第18-19页 |
| ·TiO_2薄膜的沉积方法 | 第19-21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19页 |
| ·化学气相沉积 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射镀膜法 | 第20-21页 |
| ·液相沉积法 | 第21页 |
| ·电子束蒸发法 | 第21页 |
| ·二氧化钛的应用 | 第21-22页 |
| ·TiO_2在染料敏化太阳能电池中的应用 | 第21-22页 |
| ·TiO_2在污水处理中的应用 | 第22页 |
| ·TiO_2在空气净化上的应用 | 第22页 |
| ·自清洁涂层 | 第22页 |
| ·本论文的研究目的、内容及意义 | 第22-24页 |
| 2 实验装置与表征方法 | 第24-31页 |
| ·实验原理 | 第24-27页 |
| ·原理 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射 | 第25页 |
| ·实验装置 | 第25-27页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第27-31页 |
| ·X射线衍射 | 第27-28页 |
| ·原子力显微镜 | 第28-29页 |
| ·薄膜厚度 | 第29页 |
| ·紫外分光光度计 | 第29-30页 |
| ·光催化性能 | 第30-31页 |
| 3 磁控溅射法沉积TiO_2薄膜 | 第31-34页 |
| ·TiO_2薄膜的沉积过程 | 第31-32页 |
| ·基片制作与清洗 | 第31页 |
| ·镀膜过程 | 第31-32页 |
| ·实验方案设计 | 第32-34页 |
| ·不同溅射气压下薄膜的工艺参数 | 第32页 |
| ·不同溅射功率下薄膜的工艺参数 | 第32-33页 |
| ·不同基底温度下薄膜的工艺参数 | 第33页 |
| ·不同氩氧流量比下薄膜的工艺参数 | 第33-34页 |
| 4 磁控溅射工艺参数对TiO_2薄膜结构和性质的影响 | 第34-52页 |
| ·溅射气压对TiO_2薄膜性能的影响 | 第34-38页 |
| ·溅射气压对TiO_2薄膜沉积速率的影响 | 第34-35页 |
| ·溅射气压对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第35页 |
| ·溅射气压对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第35-37页 |
| ·溅射气压对TiO_2薄膜光催化性的影响 | 第37-38页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜性能的影响 | 第38-42页 |
| ·溅射功率对沉积速率的影响 | 第38-39页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第39-40页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜光催化性的影响 | 第41-42页 |
| ·基底温度对TiO_2薄膜性能的影响 | 第42-46页 |
| ·基底温度对沉积速率的影响 | 第42-43页 |
| ·基底温度对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第43-44页 |
| ·基底温度对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| ·基底温度对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第45-46页 |
| ·氧含量对TiO_2薄膜性能的影响 | 第46-50页 |
| ·氧含量对沉积速率的影响 | 第46-47页 |
| ·氧含量对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第47-48页 |
| ·氧含量对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·氧含量对TiO_2薄膜光催化活性的影响 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 5 二氧化钛薄膜的光学性质 | 第52-54页 |
| ·不同衬底温度下TiO_2薄膜的光学性质讨论 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |