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Cu基底CIS薄膜的Cu/In互扩散研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第1章 绪论第10-22页
   ·太阳能电池简介第10-15页
     ·研究太阳能电池的意义第10-12页
     ·太阳能电池的分类第12-13页
     ·太阳能电池的原理第13-15页
   ·CIS 太阳能电池第15-18页
     ·当前CIS 太阳能电池的研究现状第15页
     ·CIS 太阳能电池的结构第15-16页
     ·吸收层CuInSe2 薄膜的制备方法第16-18页
       ·真空蒸发法第16-17页
       ·喷涂热解法第17页
       ·磁控溅射法第17页
       ·丝网印刷法第17页
       ·分子束外延技术第17-18页
       ·电沉积方法第18页
       ·Cu/In 合金薄膜硒化法第18页
   ·Cu 基底 CIS 太阳能电池第18-20页
     ·柔性CIS 太阳能电池的优点第18-19页
     ·Cu 基底CIS 薄膜太阳电池的制备工艺第19-20页
   ·Cu/In 合金对 CIS 薄膜性能的影响第20-21页
   ·本课题研究目的与主要内容第21-22页
第2章 实验过程与测试方法第22-31页
   ·实验过程第22-28页
     ·电沉积In 薄膜的制备第22-26页
       ·电沉积原理第22-23页
       ·实验药品和仪器第23页
       ·镀液配制第23-24页
       ·试样准备第24-25页
       ·电沉积过程第25-26页
     ·热处理实验第26-27页
     ·试样的磨制第27-28页
   ·测试方法第28-30页
     ·金相显微镜观察第28页
     ·扫描电镜(SEM)和能谱(EDS)分析第28-29页
     ·X 射线衍射分析第29-30页
   ·本章小结第30-31页
第3章 Cu/In 固液反应研究第31-43页
   ·引言第31页
   ·金属固液反应第31-32页
     ·固态金属在液态金属中的溶解机制第31-32页
     ·影响固态金属在液态金属中溶解的因素第32页
   ·Cu、In 与 Cu/In 相图第32-33页
     ·Cu、In 的物理性质第32-33页
     ·Cu/In 相图及分析第33页
   ·180~280℃温度区间内 Cu/In 界面微观结构表征第33-38页
     ·热处理温度对 Cu/In 扩散偶界面的影响第33-34页
     ·热处理时间对 Cu/In 扩散偶界面的影响第34-36页
     ·金属间化合物结构的分析第36-38页
       ·EDS 分析第36-37页
       ·XRD 分析第37-38页
   ·450 ~ 550℃温度区间内 Cu/In 界面微观结构表征第38-42页
     ·热处理温度对 Cu/In 扩散偶界面的影响第38-39页
     ·热处理时间对 Cu/In 扩散偶界面的影响第39-41页
     ·Cu/In 金属间化合物成分分析第41-42页
       ·EDS 分析第41页
       ·XRD 分析第41-42页
   ·本章小结第42-43页
第4章 Cu/In 金属间化合物生长动力学与扩散系数研究第43-53页
   ·引言第43页
   ·Cu/In 金属间化合物的生长动力学研究第43-46页
     ·金属间化合物生长行为第43页
     ·Cu_(11)In_9 相的生长动力学分析第43-44页
     ·硒化温度下 Cu/In 金属间化合物的生长动力学分析第44-46页
   ·Cu/In 金属间化合物层扩散系数与激活能的实验计算第46-52页
     ·扩散与扩散系数第46-49页
       ·扩散分类第46页
       ·扩散机制第46页
       ·扩散系数第46-49页
     ·Cu_(11)In_9 层的扩散系数与扩散激活能计算第49-50页
     ·金属间化合物层的扩散系数与扩散激活能计算第50-52页
   ·本章小结第52-53页
第5章 总结与展望第53-55页
   ·论文总结第53-54页
   ·工作展望第54-55页
参考文献第55-59页
致谢第59-60页
攻读学位期间发表论文第60页

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