摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
目录 | 第10-12页 |
第一章 绪论 | 第12-25页 |
·纳米材料的概述及特性 | 第12-14页 |
·ZnS纳米材料的研究现状及应用前景 | 第14-22页 |
·纳米半导体材料的制备要求 | 第16页 |
·纳米半导体材料的制备方法 | 第16-21页 |
·表征手段 | 第21-22页 |
·本论文研究的内容 | 第22-23页 |
参考文献 | 第23-25页 |
第二章 纳米ZnS薄膜的制备及光致发光性质 | 第25-37页 |
·导电玻璃片预处理 | 第25页 |
·纳米ZnS薄膜的制备 | 第25-29页 |
·pH值对制备ZnS薄膜的影响 | 第26-27页 |
·沉积时间对制备ZnS薄膜的影响 | 第27-28页 |
·不同络合剂对制备ZnS薄膜的影响 | 第28-29页 |
·纳米ZnS薄膜的表征 | 第29-30页 |
·纳米ZnS薄膜的光致发光性质 | 第30-33页 |
·纳米材料光致发光的基本知识 | 第30-31页 |
·纳米ZnS薄膜的光致发光 | 第31-33页 |
·分析 | 第33页 |
·小结 | 第33-35页 |
参考文献 | 第35-37页 |
第三章 Cu掺杂纳米ZnS薄膜的制备及光致发光性质 | 第37-46页 |
·Cu掺杂的纳米ZnS薄膜的制备 | 第37-38页 |
·Cu掺杂的纳米ZnS薄膜的表征 | 第38-39页 |
·Cu掺杂的纳米ZnS薄膜的荧光光谱分析 | 第39-41页 |
·小结 | 第41-43页 |
参考文献 | 第43-46页 |
第四章 ZnS:Cu谐振腔的制备 | 第46-54页 |
·Fabry-Perot干涉原理 | 第46-48页 |
·Fabry-Perot腔的制作 | 第48-49页 |
·分析 | 第49-50页 |
·小结 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-54页 |
第五章 结论与展望 | 第54-56页 |
·总结 | 第54-55页 |
·展望 | 第55-56页 |
致谢 | 第56-57页 |
附录:作者在攻读硕士期间发表的论文 | 第57页 |