| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 概述 | 第8-13页 |
| ·高频磁性材料的发展状况 | 第8-10页 |
| ·常用的薄膜制备方法 | 第10-12页 |
| 参考文献 | 第12-13页 |
| 第二章 实验方法及研究设备 | 第13-24页 |
| ·动态磁化的理论基础 | 第13-15页 |
| ·软磁薄膜面内及面外各向异性场的测定 | 第15-16页 |
| ·宏观磁性测量—振动样品磁强计(VSM) | 第16-18页 |
| ·振动样品磁强计简介 | 第16-17页 |
| ·振动样品磁强计工作原理 | 第17-18页 |
| ·晶体结构分析—X射线衍射(XRD) | 第18-19页 |
| ·X射线衍射仪简介 | 第18-19页 |
| ·X射线衍射基本原理 | 第19页 |
| ·形貌分析—扫描电子显微镜(SEM) | 第19-20页 |
| ·扫描电子显微镜简介 | 第19-20页 |
| ·扫描电子显微镜工原理 | 第20页 |
| ·高频磁性测量—矢量网络分析仪 | 第20-23页 |
| ·矢量网络分析仪简介 | 第20-21页 |
| ·单端口微带线测薄膜磁谱工作原理及测试装置 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-24页 |
| 第三章 样品的制备方法 | 第24-31页 |
| ·电化学基础简介 | 第24-27页 |
| ·电化学沉积制备FeCo、FeNi合金薄膜工艺流程 | 第27-30页 |
| ·基本镀液及工艺条件 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-31页 |
| 第四章 电沉积FeCo、FeNi合金薄膜的结构、形貌及其磁性 | 第31-55页 |
| ·FeCo合金薄膜 | 第31-49页 |
| ·薄膜厚度对磁性的影响 | 第31-32页 |
| ·沉积电流密度对薄膜磁性的影响 | 第32-33页 |
| ·沉积电位对薄膜磁性的影响 | 第33-34页 |
| ·镀液pH值对薄膜磁性的影响 | 第34-36页 |
| ·占空比对薄膜磁性的影响 | 第36页 |
| ·FeCo成分比对诱导面内各向异性场的影响 | 第36-38页 |
| ·沉积过程加场对各向异性场的影响 | 第38-42页 |
| ·沉积过程外加磁场大小对高频磁性的影响 | 第42-43页 |
| ·改变膜厚对高频磁性的影响 | 第43-44页 |
| ·镀液温度对薄膜成分、晶体结构、表面形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·镀液温度对薄膜静态磁性及高频磁性的影响 | 第46-48页 |
| ·典型FeCo样品的高频本征磁性 | 第48-49页 |
| ·FeNi合金薄膜 | 第49-54页 |
| ·反常共沉淀现象 | 第49-50页 |
| ·不同FeNi成分比的薄膜样品XRD图谱 | 第50页 |
| ·不同成分比对薄膜面内各向异性场大小的影响 | 第50-51页 |
| ·加磁场对FeNi膜的磁谱的影响 | 第51-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-56页 |
| 附录:硕士在读期间已发表的论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |