乙内酰脲体系无氰电镀金工艺的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| ·课题背景及研究的目的和意义 | 第10-11页 |
| ·镀金层的性质和应用 | 第10页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第10-11页 |
| ·无氰电镀金的研究现状 | 第11-17页 |
| ·无氰电镀金的研究进展 | 第11-15页 |
| ·无氰电镀金的主要镀液体系 | 第15-16页 |
| ·无氰电镀金存在的问题及发展趋势 | 第16-17页 |
| ·脉冲电沉积的发展现状 | 第17-20页 |
| ·脉冲电沉积的优点 | 第17页 |
| ·脉冲电沉积的应用 | 第17-18页 |
| ·脉冲电沉积金镀层 | 第18-20页 |
| ·电沉积金的理论研究现状 | 第20-23页 |
| ·电沉积金过程动力学的研究 | 第20-21页 |
| ·电结晶及成核过程的研究 | 第21-23页 |
| ·课题来源及主要研究内容 | 第23-25页 |
| ·课题来源 | 第23页 |
| ·课题主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验材料及测试方法 | 第25-31页 |
| ·实验材料及仪器设备 | 第25-26页 |
| ·主要试剂 | 第25页 |
| ·主要仪器设备 | 第25-26页 |
| ·电镀金工艺 | 第26-27页 |
| ·主盐的制备 | 第26页 |
| ·镀液的配制 | 第26页 |
| ·工艺流程 | 第26-27页 |
| ·前处理工艺 | 第27页 |
| ·实验装置 | 第27页 |
| ·测试方法 | 第27-31页 |
| ·镀层性能测试 | 第27-28页 |
| ·镀液性能测试 | 第28-30页 |
| ·氰化物镀金液 | 第30页 |
| ·电化学测试 | 第30-31页 |
| 第3章 无氰电镀金工艺的研究 | 第31-58页 |
| ·不同无氰电镀金体系的研究 | 第31-33页 |
| ·亚硫酸盐电镀金体系 | 第31页 |
| ·亚硫酸盐-硫代硫酸盐电镀金体系 | 第31-32页 |
| ·乙内酰脲电镀金体系 | 第32-33页 |
| ·无氰电镀金体系的确定 | 第33-35页 |
| ·添加剂的确定 | 第35-37页 |
| ·加速剂的选择 | 第35-36页 |
| ·光亮剂的选择 | 第36-37页 |
| ·直流DMH 电镀金工艺的研究 | 第37-50页 |
| ·镀液组成的影响 | 第37-45页 |
| ·工艺条件的影响 | 第45-50页 |
| ·单向脉冲DMH 电镀金工艺的研究 | 第50-57页 |
| ·脉冲工艺参数的正交实验 | 第51-52页 |
| ·脉冲工艺参数的影响 | 第52-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第4章 镀层及镀液性能测试 | 第58-64页 |
| ·镀层性能测试 | 第58-60页 |
| ·镀层结合力测试 | 第58页 |
| ·镀层耐蚀性测试 | 第58页 |
| ·镀层硬度测试 | 第58-59页 |
| ·镀层晶体结构 | 第59页 |
| ·镀层组成分析 | 第59-60页 |
| ·镀液性能测试 | 第60-63页 |
| ·覆盖能力 | 第60页 |
| ·分散能力 | 第60-61页 |
| ·电流效率 | 第61-62页 |
| ·镀液稳定性 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第5章 电沉积金机理的研究 | 第64-74页 |
| ·基础镀液的电化学行为研究 | 第64-69页 |
| ·电化学窗口测试 | 第64页 |
| ·基础镀液的循环伏安曲线 | 第64-67页 |
| ·无氰镀金过程活化能的计算 | 第67-69页 |
| ·添加剂的作用机理研究 | 第69-72页 |
| ·添加剂对镀液循环伏安曲线的影响 | 第69-70页 |
| ·添加剂对阴极极化曲线的影响 | 第70-71页 |
| ·添加剂对成核的影响 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
