掺杂型ZnO光电功能薄膜的制备及机理的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 引言 | 第11-12页 |
| 第1章 概论 | 第12-18页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第12-13页 |
| ·ZnO 的结构特点 | 第12-13页 |
| ·ZnO 的能带结构 | 第13页 |
| ·ZnO 的n 型掺杂 | 第13-15页 |
| ·AZO 薄膜的特性 | 第13-15页 |
| ·AZO 薄膜的电学性质 | 第15页 |
| ·AZO 薄膜的透光性 | 第15页 |
| ·ZnO 的p 型掺杂 | 第15-16页 |
| ·施主-受主共掺杂的理论 | 第15-16页 |
| ·施主-受主共掺制备p 型ZnO 的研究现状 | 第16页 |
| ·掺杂型ZnO 薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| ·课题的提出 | 第17-18页 |
| 第2章 薄膜的制备与性能表征方法 | 第18-27页 |
| ·溶胶-凝胶体系的选用 | 第18页 |
| ·实验原料 | 第18页 |
| ·实验步骤及技术路线 | 第18-19页 |
| ·溶胶的制备 | 第19-21页 |
| ·ZnO 溶胶的制备 | 第19-20页 |
| ·AZO 溶胶的制备 | 第20页 |
| ·Al-N 共掺溶胶的制备 | 第20-21页 |
| ·薄膜的制备 | 第21-23页 |
| ·基片的清洗 | 第21页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第21-22页 |
| ·薄膜的热处理 | 第22-23页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第23-26页 |
| ·X-射线衍射分析（XRD） | 第23页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FE-SEM） | 第23页 |
| ·紫外可见光光度计 | 第23-24页 |
| ·霍尔（Hall）效应测量仪 | 第24页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第24-25页 |
| ·X 光电子能谱（XPS） | 第25-26页 |
| ·实验所用仪器设备 | 第26-27页 |
| 第3章 ZnO 薄膜性能研究 | 第27-31页 |
| ·ZnO 薄膜晶体结构的研究 | 第27-28页 |
| ·溶胶浓度对ZnO 晶体结构的影响 | 第27页 |
| ·热处理温度对ZnO 晶体结构的影响 | 第27-28页 |
| ·ZnO 薄膜光学性能的研究 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第4章 Al 掺杂型ZnO 薄膜的性能研究 | 第31-43页 |
| ·掺杂浓度对AZO 薄膜性能的影响 | 第31-36页 |
| ·掺杂浓度对晶体结构的影响 | 第31-32页 |
| ·掺杂浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第32-34页 |
| ·掺杂浓度对薄膜光学性能的影响 | 第34-35页 |
| ·掺杂浓度对薄膜电学性能的影响 | 第35-36页 |
| ·镀膜层数对AZO 薄膜性能的影响 | 第36-39页 |
| ·镀膜层数对薄膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·镀膜层数对薄膜光学性能的影响 | 第37-39页 |
| ·镀膜层数对薄膜电学性能的影响 | 第39页 |
| ·热处理温度对AZO 薄膜性能的影响 | 第39-42页 |
| ·热处理温度对薄膜晶体结构的影响 | 第39-40页 |
| ·热处理温度对薄膜表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·热处理温度对薄膜光学性能的影响 | 第41-42页 |
| ·热处理温度对薄膜电学性能的影响 | 第42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第5章 Al-N 共掺杂型ZnO 薄膜的性能研究 | 第43-56页 |
| ·掺杂浓度对Al-N 共掺薄膜性能的影响 | 第43-50页 |
| ·掺杂浓度对薄膜晶体结构的影响 | 第43-44页 |
| ·掺杂浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第44-47页 |
| ·掺杂浓度对薄膜光学性能的影响 | 第47-49页 |
| ·掺杂浓度对薄膜电学性能的影响 | 第49-50页 |
| ·镀膜层数对Al-N 共掺薄膜性能的影响 | 第50-52页 |
| ·镀膜层数对薄膜表面形貌的影响 | 第50-51页 |
| ·镀膜层数对薄膜光学性能的影响 | 第51-52页 |
| ·镀膜层数对薄膜电学性能的影响 | 第52页 |
| ·热处理温度对Al-N 共掺薄膜性能的影响 | 第52-55页 |
| ·热处理温度对薄膜晶体结构的影响 | 第52-53页 |
| ·热处理温度对薄膜表面形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·热处理温度对薄膜光学性能的影响 | 第54页 |
| ·热处理温度对薄膜电学性能的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第6章 Al-N 共掺机理的研究 | 第56-64页 |
| ·Al-N 共掺杂微观结构的研究 | 第56-61页 |
| ·薄膜的XPS 全能谱分析 | 第56-57页 |
| ·Zn2p 的XPS 能谱分析 | 第57-58页 |
| ·Al2p 的XPS 能谱分析 | 第58-59页 |
| ·N1s 的XPS 能谱分析 | 第59-60页 |
| ·O1s 的XPS 能谱分析 | 第60-61页 |
| ·Al-N 共掺的掺杂机理 | 第61-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 导师简介 | 第70-71页 |
| 作者简介 | 第71-72页 |
| 学位论文数据集 | 第72页 |
