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高通量纳秒激光装置的损伤口径效应研究

摘要第3-4页
abstract第4-5页
主要符号对照表第8-9页
第1章 绪论第9-30页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 高通量激光装置中的激光损伤问题第10-19页
        1.2.1 高通量激光装置简述第10-12页
        1.2.2 激光损伤形貌与现象第12-16页
        1.2.3 激光损伤机制与理论第16-19页
    1.3 激光损伤的口径效应第19-28页
        1.3.1 大小口径激光系统的差异第19-22页
        1.3.2 激光损伤口径效应的内涵第22-24页
        1.3.3 激光损伤口径效应的表现第24-28页
    1.4 本论文的主要内容第28-30页
第2章 口径效应之一:横向受激散射效应第30-53页
    2.1 本章引言第30页
    2.2 横向受激拉曼散射效应基础理论第30-36页
        2.2.1 物理图像第30-31页
        2.2.2 理论模型第31-34页
        2.2.3 阈值定义及讨论第34-36页
    2.3 双肺型损伤现象及分析第36-41页
    2.4 横向受激散射抑制措施及实验验证第41-51页
        2.4.1 抑制措施简述第41-42页
        2.4.2 隔离阵列的设计与制备第42-45页
        2.4.3 实验验证第45-51页
    2.5 本章小结第51-53页
第3章 口径效应之二:小口径光束抽样误差问题第53-71页
    3.1 本章引言第53页
    3.2 激光损伤阈值测试方法简述第53-55页
    3.3 小口径光束激光损伤的口径效应分析第55-64页
        3.3.1 小口径光束激光损伤的数学建模第55-58页
        3.3.2 数值分析与讨论第58-62页
        3.3.3 小口径光束激光损伤的抽样误差第62-64页
    3.4 解决措施第64-70页
    3.5 本章小结第70-71页
第4章 口径效应之三:大口径光束近场非均匀性问题第71-90页
    4.1 本章引言第71-72页
    4.2 大口径光束近场分布的基本理论第72-79页
        4.2.1 描述光束近场分布的特征量第72-73页
        4.2.2 光束近场不均匀性的形成机制第73-76页
        4.2.3 光束近场不均匀性的产生规律第76-79页
    4.3 光束近场分布随机变化的统计规律第79-88页
        4.3.1 近场分布随机变化的影响第79-80页
        4.3.2 实验数据与统计分析第80-84页
        4.3.3 理论建模与验证第84-88页
    4.4 本章小结第88-90页
第5章 大口径熔石英激光损伤实验研究第90-102页
    5.1 本章引言第90页
    5.2 实验光路与实验过程第90-93页
    5.3 实验结果与分析第93-100页
    5.4 本章小结第100-102页
第6章 大口径DKDP晶体激光损伤实验研究第102-111页
    6.1 本章引言第102页
    6.2 实验光路与实验过程第102-104页
    6.3 实验结果与分析第104-110页
    6.4 本章小结第110-111页
第7章 总结与展望第111-114页
    7.1 论文主要工作和结论第111-112页
    7.2 论文的创新点第112-113页
    7.3 下一步工作展望第113-114页
参考文献第114-126页
致谢第126-128页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第128-129页

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