| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体光催化氧化概述 | 第12-15页 |
| 1.2.1 半导体催化性质 | 第12-13页 |
| 1.2.2 半导体光催化反应机理 | 第13-15页 |
| 1.2.3 二氧化钛的改性研究 | 第15页 |
| 1.3 染料敏化剂卟啉及其衍生物 | 第15-20页 |
| 1.3.1 卟啉母环的分子结构 | 第15-16页 |
| 1.3.2 卟啉及其衍生物的合成 | 第16-20页 |
| 1.4 煤脱硫现状 | 第20-23页 |
| 1.4.1 物理脱硫 | 第20页 |
| 1.4.2 加氢脱硫 | 第20-21页 |
| 1.4.3 吸附脱硫 | 第21-22页 |
| 1.4.4 氧化脱硫 | 第22页 |
| 1.4.5 光催化氧化脱硫 | 第22-23页 |
| 1.5 本课题的研究目的及研究内容 | 第23-25页 |
| 1.5.1 本课题的研究目的 | 第23页 |
| 1.5.2 本课题的研究内容 | 第23-25页 |
| 2 席夫碱桥连卟啉敏化剂的合成及结构表征 | 第25-39页 |
| 2.1 引言 | 第25-26页 |
| 2.2 试剂与仪器 | 第26-27页 |
| 2.3 目标产物的合成 | 第27-33页 |
| 2.3.1 对-N-咔唑苯甲醛的合成和表征 | 第27-28页 |
| 2.3.2 四(咔唑基苯基)卟啉(TCPP)的合成及表征 | 第28-29页 |
| 2.3.3 四(4-硝基苯基)卟啉(TNPP)的合成及表征 | 第29-30页 |
| 2.3.4 四(4-氨基苯基)卟啉(TAPP)的合成及表征 | 第30-31页 |
| 2.3.5 四[对-(P-N-咔唑基亚苄基亚氨基)]苯基卟啉(TCIPP)的合成及表征 | 第31-33页 |
| 2.4 结构及性能分析 | 第33-37页 |
| 2.4.1 元素分析 | 第33-34页 |
| 2.4.2 红外图谱的分析 | 第34-35页 |
| 2.4.3 紫外-可见光吸收光谱分析 | 第35页 |
| 2.4.4 电化学性质和能级结构 | 第35-37页 |
| 2.5 小结 | 第37-39页 |
| 3 卟啉衍生物-TiO_2复合敏化剂的合成及性能表征 | 第39-45页 |
| 3.1 引言 | 第39-40页 |
| 3.2 实验试剂及设备 | 第40页 |
| 3.3 卟啉衍生物-TiO_2复合催化剂的合成步骤 | 第40-41页 |
| 3.4 结构及性能分析 | 第41-44页 |
| 3.4.1 形貌分析 | 第41-42页 |
| 3.4.2 XRD分析 | 第42-43页 |
| 3.4.3 红外图谱的分析 | 第43页 |
| 3.4.4 固体紫外-可见光吸收光谱分析 | 第43-44页 |
| 3.5 小结 | 第44-45页 |
| 4 卟啉衍生物-TiO_2复合材料的光催化性能探究 | 第45-51页 |
| 4.1 引言 | 第45-46页 |
| 4.2 实验所用仪器及试剂 | 第46页 |
| 4.3 实验方法步骤 | 第46-47页 |
| 4.4 不同条件对光催化性能的影响 | 第47-50页 |
| 4.4.1 催化剂用量对率的影响 | 第47页 |
| 4.4.2 温度和时间对脱硫率的影响 | 第47-49页 |
| 4.4.3 H_2O_2的用量对脱硫率的影响 | 第49页 |
| 4.4.4 pH对脱硫率率的影响 | 第49-50页 |
| 4.5 小结 | 第50-51页 |
| 5 结论 | 第51-53页 |
| 附录 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-61页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
