| 摘要 | 第4-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第14-37页 |
| 1.1 研究背景 | 第14-17页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第17-34页 |
| 1.3 目前阻氚涂层存在的问题 | 第34-35页 |
| 1.4 本课题的研究意义、内容和目标 | 第35-37页 |
| 2 实验材料、工艺方法方法及性能分析方法 | 第37-48页 |
| 2.1 实验材料 | 第37-39页 |
| 2.2 实验工艺方法及设备 | 第39-43页 |
| 2.3 阻氚涂层的成分与微观组织结构表征 | 第43-44页 |
| 2.4 阻氚涂层的性能表征 | 第44-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 3 自愈合阻氚涂层的成分设计和结构设计研究 | 第48-53页 |
| 3.1 自愈合阻氚涂层的结构设计 | 第48-49页 |
| 3.2 自愈合阻氚涂层的成分设计 | 第49-51页 |
| 3.3 自愈合阻氚涂层的打底层研究 | 第51-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 4 自愈合阻氚涂层的自愈合热处理工艺研究 | 第53-72页 |
| 4.1 前言 | 第53页 |
| 4.2 自愈合温度对阻氚涂层的影响 | 第53-57页 |
| 4.3 自愈合时间对阻氚涂层的影响 | 第57-59页 |
| 4.4 不同温度热处理时的涂层失效分析 | 第59-63页 |
| 4.5 涂层的力学性能 | 第63-67页 |
| 4.6 涂层的阻氢性能测试 | 第67-70页 |
| 4.7 本章小结 | 第70-72页 |
| 5 TIC层与基体的结合机理研究及涂层优化 | 第72-86页 |
| 5.1 TIC层与基体的结合机理研究 | 第72-77页 |
| 5.2 涂层制备工艺改进 | 第77-85页 |
| 5.3 本章小结 | 第85-86页 |
| 6 自愈合阻氚涂层的氮化氧化工艺研究 | 第86-97页 |
| 6.1 前言 | 第86页 |
| 6.2 氮化氧化处理 | 第86-87页 |
| 6.3 形貌与成分分析 | 第87-94页 |
| 6.4 阻氢性能测试 | 第94-95页 |
| 6.5 力学性能测试 | 第95-96页 |
| 6.6 本章小结 | 第96-97页 |
| 7 TIN表面氢行为的计算研究 | 第97-123页 |
| 7.1 前言 | 第97页 |
| 7.2 研究方法与细节 | 第97-99页 |
| 7.3 TIN(200)面的氢行为 | 第99-106页 |
| 7.4 TIN(111)表面最表层为TI时的氢行为 | 第106-114页 |
| 7.5 TIN(111)表面最表层为N时的氢行为 | 第114-121页 |
| 7.6 不同晶向TIN表面的H行为比较 | 第121-122页 |
| 7.7 本章小结 | 第122-123页 |
| 8 论文总结 | 第123-126页 |
| 8.1 主要结论 | 第123-125页 |
| 8.2 不足与展望 | 第125-126页 |
| 致谢 | 第126-128页 |
| 参考文献 | 第128-140页 |
| 附录1 攻读学位期间发表的论文目录 | 第140页 |