| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 主要符号对照表 | 第11-12页 |
| 1.绪论 | 第12-33页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 平面微细图形制造技术 | 第13-17页 |
| 1.3 曲面微细图形制造技术 | 第17-22页 |
| 1.4 激光直写光刻技术的发展历程 | 第22-30页 |
| 1.5 本课题研究意义及内容 | 第30-33页 |
| 2.高效率曲面激光直写光刻系统的设计与构建 | 第33-61页 |
| 2.1 前言 | 第33-34页 |
| 2.2 高效率曲面激光直写光刻系统的结构及工作原理 | 第34-51页 |
| 2.3 激光直写光刻图形路径的生成与控制 | 第51-60页 |
| 2.4 大幅面、跨尺度曲面激光直写光刻的设备可行性 | 第60页 |
| 2.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 3.激光直写光刻用材料-光刻胶的制备与涂覆技术 | 第61-77页 |
| 3.1 前言 | 第61-62页 |
| 3.2 光刻胶的制备与性能测试 | 第62-68页 |
| 3.3 光刻胶的溶解抑制与感光机理 | 第68-70页 |
| 3.4 光刻胶的三维曲面涂覆膜厚分析与测试 | 第70-76页 |
| 3.5 本章小结 | 第76-77页 |
| 4.激光与光刻胶相互作用机理和激光直写光刻理论模型 | 第77-102页 |
| 4.1 前言 | 第77页 |
| 4.2 实验部分 | 第77-79页 |
| 4.3 不同波长的激光与光刻胶的相互作用 | 第79-84页 |
| 4.4 光刻胶的曝光阈值能量密度分析 | 第84-85页 |
| 4.5 激光直写光刻的能量密度分布及图形轮廓的理论模型分析 | 第85-101页 |
| 4.6 本章小结 | 第101-102页 |
| 5.激光直写光刻工艺参数对光刻图形线宽的影响规律 | 第102-117页 |
| 5.1 前言 | 第102页 |
| 5.2 实验部分 | 第102-104页 |
| 5.3 激光扫描曝光对光刻图形轮廓的影响 | 第104-116页 |
| 5.4 本章小结 | 第116-117页 |
| 6.激光直写光刻制作大面积、曲面微细图形的应用研究 | 第117-130页 |
| 6.1 前言 | 第117页 |
| 6.2 实验部分 | 第117-118页 |
| 6.3 平面微细图形的制作 | 第118-124页 |
| 6.4 曲面微细图形的制作 | 第124-129页 |
| 6.5 本章小结 | 第129-130页 |
| 7.全文总结 | 第130-133页 |
| 7.1 主要结论 | 第130-131页 |
| 7.2 研究展望 | 第131-133页 |
| 致谢 | 第133-134页 |
| 参考文献 | 第134-154页 |
| 附录I 攻读博士学位期间发表的论文和申请的专利 | 第154-155页 |
| 1学术论文 | 第154-155页 |
| 2申请专利 | 第155页 |
