电子电流的产生和多孔阳极氧化铝的形成机理
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-23页 |
| ·多孔阳极氧化铝的研究背景及其研究意义 | 第7-8页 |
| ·多孔阳极氧化铝的结构模型 | 第8-12页 |
| ·KHR结构模型 | 第8-9页 |
| ·Murphy结构模型 | 第9-10页 |
| ·KHR修正模型 | 第10页 |
| ·Wood模型 | 第10-11页 |
| ·Wada结构模型 | 第11-12页 |
| ·多孔阳极氧化铝的形成机理 | 第12-22页 |
| ·酸性场致助溶理论 | 第12-15页 |
| ·临界电流密度理论 | 第15-16页 |
| ·体积膨胀应力理论 | 第16-17页 |
| ·氧气气泡模具理论 | 第17-18页 |
| ·物质流动理论 | 第18-19页 |
| ·阻挡层击穿理论 | 第19-20页 |
| ·电场平衡理论 | 第20-22页 |
| ·本文的研究目标与主要内容 | 第22-23页 |
| ·研究目标 | 第22页 |
| ·主要内容 | 第22-23页 |
| 2 壁垒型阳极氧化铝的生长机制 | 第23-46页 |
| ·壁垒型阳极氧化铝的形成理论及雪崩电子电流的产生 | 第23-27页 |
| ·壁垒型阳极氧化铝的形成理论 | 第23-24页 |
| ·雪崩电子电流的产生 | 第24-27页 |
| ·铝在阳极氧化过程中电流效率和氧化铝形成效率 | 第27-31页 |
| ·铝在阳极氧化过程中的电流效率 | 第27-29页 |
| ·铝在阳极氧化过程中氧化铝形成效率 | 第29-31页 |
| ·实验原料、设备和阳极氧化工艺 | 第31-32页 |
| ·实验原料和设备 | 第31页 |
| ·阳极氧化工艺 | 第31-32页 |
| ·实验结果与讨论 | 第32-41页 |
| ·V-t曲线分析 | 第32-36页 |
| ·铝在形成BAA过程中的电流效率及氧化铝形成效率 | 第36-38页 |
| ·壁垒型阳极氧化铝的表征分析 | 第38-41页 |
| ·壁垒型阳极氧化铝生长机制及闪火本质的探讨 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 3 混合电解液中氧化膜的生长机制 | 第46-60页 |
| ·壁垒型阳极氧化铝和多孔型阳极氧化铝之间的联系 | 第46-49页 |
| ·实验原料、设备和阳极氧化工艺 | 第49-50页 |
| ·实验原料和设备 | 第49-50页 |
| ·阳极氧化工艺 | 第50页 |
| ·实验结果与讨论 | 第50-57页 |
| ·V-t曲线分析 | 第50-53页 |
| ·铝在混合电解液中的电流效率及氧化铝形成效率 | 第53-55页 |
| ·混合电解液中形成的氧化膜表征分析 | 第55-57页 |
| ·混合电解液中氧化膜生长机制 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 4 多孔型阳极氧化铝的生长机制 | 第60-77页 |
| ·前人关于多孔型阳极氧化铝的生长机制 | 第60-61页 |
| ·实验步骤 | 第61-62页 |
| ·实验原料与仪器 | 第61-62页 |
| ·阳极氧化工艺 | 第62页 |
| ·实验结果与讨论 | 第62-74页 |
| ·V-t曲线分析 | 第62-67页 |
| ·铝在形成PAA过程中的电流效率及氧化铝形成效率 | 第67-70页 |
| ·多孔型阳极氧化铝的表征分析 | 第70-74页 |
| ·多孔型阳极氧化铝生长机制 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 5 电子电流和PAA孔道形成的关系 | 第77-84页 |
| ·氧气气泡模具理论 | 第77-78页 |
| ·氧化膜内电子电流产生的本质 | 第78-80页 |
| ·电子电流的产生和多孔孔道形成的关系 | 第80-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 6 全文结论和创新及工作展望 | 第84-87页 |
| ·全文结论 | 第84-86页 |
| ·全文创新和特色 | 第86页 |
| ·工作展望 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-94页 |
