| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-10页 |
| ·物理气相沉积(PVD)概述 | 第10-21页 |
| ·PVD技术基本原理及分类 | 第10页 |
| ·PVD技术的现状及发展趋势 | 第10-12页 |
| ·离子镀 | 第12-18页 |
| ·硬质薄膜的分类 | 第18-21页 |
| ·氮化物硬质涂层的发展 | 第21-23页 |
| ·以TiN为代表的第一代二元涂层 | 第21-22页 |
| ·多组元涂层(multi-component coatings) | 第22页 |
| ·多层涂层(multilayered coatings) | 第22-23页 |
| ·(Ti,Al)N涂层研究现状 | 第23-24页 |
| ·Al元素对涂层结构的影响 | 第23-24页 |
| ·(Ti_(1-x)Al_x)N涂层抗高温氧化腐蚀性能 | 第24页 |
| ·(Ti_(1-x)Al_x)N涂层与基材的结合 | 第24页 |
| ·本文研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验仪器介绍 | 第25-32页 |
| ·镀膜设备 | 第25-26页 |
| ·清洗设备 | 第26页 |
| ·薄膜表征仪器设备 | 第26-32页 |
| ·X射线衍射(X-Ray Diffraction) | 第26-28页 |
| ·扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope) | 第28页 |
| ·纳米压痕仪 | 第28-30页 |
| ·纳米划痕仪 | 第30-32页 |
| 第三章 薄膜制备工艺的选择 | 第32-36页 |
| ·TiN薄膜的制备 | 第32-34页 |
| ·实验材料 | 第32页 |
| ·实验样品的镀前处理 | 第32页 |
| ·实验参数设定 | 第32-33页 |
| ·实验过程 | 第33-34页 |
| ·TiN/TiAlN多层薄膜的制备 | 第34-36页 |
| ·实验材料、镀前处理及镀制过程 | 第34页 |
| ·实验参数设定 | 第34-36页 |
| 第四章 TiN、TiAlN、TiN/TiAlN多层薄膜组织结构与性能 | 第36-53页 |
| ·TiN薄膜形态与性能 | 第36-40页 |
| ·TiN薄膜表面形貌 | 第36-40页 |
| ·TiN薄膜的硬度 | 第40页 |
| ·TiN/TiAlN多层复合薄膜的形态 | 第40-44页 |
| ·TiN/TiAlN多层复合薄膜的金相显微形貌分析 | 第41-43页 |
| ·TiN/TiAlN多层复合薄膜场发射扫描电镜形貌分析 | 第43-44页 |
| ·TiN/TiAlN多层复合薄膜x射线(XRD)分析 | 第44-45页 |
| ·TiN/TiAlN复合薄膜表面显微硬度测试 | 第45-47页 |
| ·TiN/TiAlN复合薄膜划痕测试 | 第47-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-64页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第64-65页 |
