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MgO薄膜忆阻器的制备及其阻变与瞬态特性研究

摘要第10-11页
ABSTRACT第11-12页
第一章 绪论第13-27页
    1.1 忆阻器及忆阻材料第13-21页
        1.1.1 忆阻器概述第13-14页
        1.1.2 忆阻材料研究现状第14-21页
    1.2 瞬态电子器件第21-23页
        1.2.1 瞬态电子器件概述第21-22页
        1.2.2 瞬态电子器件研究现状第22-23页
    1.3 MgO薄膜第23-25页
        1.3.1 MgO薄膜的结构与特性第23-24页
        1.3.2 MgO薄膜的制备方法第24页
        1.3.3 MgO薄膜的应用第24-25页
    1.4 选题依据与研究内容第25-27页
        1.4.1 选题依据第25-26页
        1.4.2 研究内容第26-27页
第二章 实验与表征方法第27-33页
    2.1 薄膜的制备工艺第27-28页
    2.2 忆阻器的制备方法第28-30页
    2.3 表征分析与性能测试第30-33页
        2.3.1 形貌、成分、结构分析第30-31页
        2.3.2 电学特性测试第31-32页
        2.3.3 瞬态性能表征第32-33页
第三章 MgO薄膜的制备工艺与微观状态研究第33-40页
    3.1 衬底温度对MgO薄膜微观状态的影响第33-36页
    3.2 沉积速率对MgO薄膜微观状态的影响第36-38页
    3.3 沉积时间对MgO薄膜微观状态的影响第38-39页
    3.4 本章小结第39-40页
第四章 MgO薄膜忆阻器的阻变特性分析第40-62页
    4.1 MgO薄膜忆阻器的形貌与结构第40-44页
        4.1.1 形貌表征第40-41页
        4.1.2 结构表征第41-44页
    4.2 MgO薄膜忆阻器的阻变性能第44-47页
        4.2.1 电阻开关特性第44-45页
        4.2.2 循环稳定性第45-47页
    4.3 MgO薄膜忆阻器阻变机理分析第47-60页
        4.3.1 忆阻器阻变机理的研究进展第47-48页
        4.3.2 阻变机理提出的实验依据第48-57页
        4.3.3 不同MgO制备工艺下忆阻器的阻变特性第57-60页
    4.4 本章小结第60-62页
第五章 MgO薄膜忆阻器的瞬态性能分析第62-74页
    5.1 MgO薄膜与忆阻器电极的溶解性能第62-64页
        5.1.1 MgO薄膜的溶解性能第62页
        5.1.2 忆阻器电极的溶解性能第62-64页
    5.2 刚性基底上忆阻器件的瞬态性能第64-66页
    5.3 可溶性基底上忆阻器件的瞬态性能第66-72页
        5.3.1 蚕丝蛋白薄膜的制备第66-67页
        5.3.2 蚕丝蛋白薄膜的性能表征第67-69页
        5.3.3 可溶性基底忆阻器的溶解性能第69-72页
    5.4 本章小结第72-74页
第六章 结论与展望第74-76页
    6.1 全文主要结论第74-75页
    6.2 后续工作展望第75-76页
致谢第76-78页
参考文献第78-85页
作者在学期间取得的学术成果第85页

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