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有机/磁性金属界面性质和有机材料场发射性能研究

摘要第3-5页
Abstract第5-7页
第一章 绪论第10-26页
    1.1 有机自旋电子学第11-15页
    1.2 有机场发射第15-19页
    参考文献第19-26页
第二章 样品的制备与测量方法第26-40页
    2.1 样品的的制备第26-30页
        2.1.1 有机-金属界面的制备第26-29页
        2.1.2 Alq_3微米刺的制备第29页
        2.1.3 CNT/Ta的制备第29-30页
    2.2 样品的形貌、结构和性能表征第30-39页
        2.2.1 样品形貌和结构表征第30-35页
        2.2.2 XPS和UPS的测量第35-36页
        2.2.3 磁性的测量第36-37页
        2.2.4 场发射的测量第37-39页
    参考文献第39-40页
第三章 有机-金属界面第40-54页
    3.1 有机材料的电子结构第41-42页
    3.2 金属的电子结构第42-43页
    3.3 有机-金属界面的能级排布第43-48页
    3.4 有机-金属界面的能级排布的测量第48-51页
    参考文献第51-54页
第四章 FeCo-有机半导体界面性质研究第54-84页
    4.1 FeCo-Bepp2界面和磁性第54-67页
        4.1.1 Bepp2/FeCo形貌结构第54-57页
        4.1.2 Bepp2/FeCo和peel-off Bepp2/FeCo的电子结构第57-65页
        4.1.3 Bepp2/FeCo的静态磁性第65-67页
    4.2 FeCo-Alq_3界面和磁性第67-81页
        4.2.1 Alq_3/FeCo形貌结构第67-70页
        4.2.2 Alq_3/FeCo和peel-offAlq_3/FeCo的电子结构第70-78页
        4.2.3 Alq_3/FeCo的磁性第78-81页
    4.3 小结第81-82页
    参考文献第82-84页
第五章 场发射基本原理第84-114页
    5.1 场发射基本原理第84-86页
    5.2 提高发射材料场发射性能的途径第86-88页
    5.3 Alq_3微米刺的场发射性能第88-98页
        5.3.1 Alq_3微米刺的生长过程第88-92页
        5.3.2 Alq_3微米刺的结构第92-93页
        5.3.3 Alq_3微米刺的场发射特性第93-98页
    5.4 CNT/Ta场发射第98-109页
        5.4.1 CNT/Ta的形貌结构第98-105页
        5.4.2 CNTs和CNT/Ta的场发射性能第105-109页
    5.5 总结第109-111页
    参考文献第111-114页
第六章 结论与展望第114-117页
    6.1 主要结论第114-115页
    6.2 展望第115-117页
附录第117-118页
致谢第118页

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